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1.
面心立方多晶薄膜中应变能密度对晶粒取向的依赖   总被引:6,自引:0,他引:6       下载免费PDF全文
张建民  徐可为 《物理学报》2002,51(11):2562-2566
对附着在基体上面心立方多晶薄膜中不同取向晶粒的应变能密度进行了计算.结果表明:在屈服之前,5个最小的应变能密度对应的晶粒取向依次为(100),(510),(410),(511)和(310);在屈服膜中,5个最小的应变能密度对应的晶粒取向依次为(110),(100),(511),(411)和(211).仅考虑应变能,这些取向的晶粒将依次优先生长  相似文献
2.
银和铜膜中异常晶粒生长和织构变化的实验研究   总被引:6,自引:1,他引:5       下载免费PDF全文
张建民  徐可为 《物理学报》2003,52(1):145-149
用透射电子显微镜(TEM)和x射线衍射(XRD)方法对经300℃,2h退火的Ag和Cu自由膜和Si基体上的Ag和Cu附着膜的异常晶粒生长和织构变化进行了实验研究.XRD分析表明:Ag和Cu沉积膜均有(111)和(100)择优取向.但经退火处理后,Ag和Cu自由膜的(111)织构稍有加强.相反,Si基体上的Ag和Cu附着膜的(100)和(110)织构明显加强,同时用TEM在Cu附着膜中观察到了两个(110)和四个(211)取向的异常大晶粒.根据表面能和应变能的各向异性对实验结果进行了分析.  相似文献
3.
fcc金属层错能的EAM法计算   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
采用嵌入原子法(EAM)计算了Cu,Ag,Au,Ni,Al,Rh,Ir,Pd,Pt和Pb等10种面心立方(fcc)金属的层错能,除Rh和Ir两种金属外,其他金属的计算结果和实验结果基本一致.  相似文献
4.
纳米压痕法测量Cu的室温蠕变速率敏感指数   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
张建民  徐可为 《物理学报》2004,53(8):2439-2443
把恒加载速率/载荷法(const.P·/P)和恒载荷法(const.P)相结合,提出了一个稳态加载和长时间保载的纳米压痕蠕变试验新方法.该方法不仅适用于高蠕变能力的低熔点材料,也适用于低蠕变能力和存在压痕尺寸效应的高熔点材料.用该方法确定Cu的室温蠕变速率敏感指数m为0.01,并发现其值不受加载段所用的P·/P值和达到的最大压入位移h-max的影响.  相似文献
5.
用改进嵌入原子法计算Cu晶体的表面能   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
张建民  徐可为  马飞 《物理学报》2003,52(8):1993-1999
用改进嵌入原子法(MEAM)计算了Cu晶体12个晶面的表面能.结果表明,密排面(111)的表面能最小.其他晶面的表面能随其晶面与(111)晶面夹角的增加而增加,据此可以粗略地估计各晶面表面能的相对大小.给出的几何结构因子的确定方法及结果可以直接用于计算其他面心立方晶体的表面能及其他特性.在Cu,Ag等面心立方薄膜中出现(111)择优取向或织构的机理是表面能的最小化.  相似文献
6.
张建民  徐可为 《中国物理》2004,13(2):205-211
Yield strengths in unpassivated and 530 nm TiN passivated Cu films deposited on Ti, high-speed steel and Ni substrates have been measured by x-ray diffraction (XRD) in combination with the four-point bending method. The results show that, although the texture and average grain size, investigated by XRD and transmission electron microscopy respectively, do not vary with different substrate, the yield strength of the Cu film increases obviously when a thin passivated layer is present and varies slightly with substrates. Many crackles appear in the passivated Cu film on Ti substrate but do not appear in other samples. The experimental results have been explained satisfactorily with an expression for the yield strength of thin films given previously.  相似文献
7.
薄膜中异常晶粒生长理论及能量各向异性分析   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
张建民  徐可为  张美荣 《物理学报》2003,52(5):1207-1212
针对柱状晶薄膜,建立了异常晶粒生长理论模型.指出薄膜中的晶粒生长,除像传统的整体材料中的晶粒生长一样考虑晶界能外,还应当考虑表面能、界面能和应变能.对能量的各向异性进行了回顾性分析.从表面能的最小化考虑,面心立方和体心立方薄膜的择优取向或织构应分别为(111)和(110);而从应变能的最小化考虑,面心立方和体心立方薄膜的择优取向或织构应分别为(110)和(100).  相似文献
8.
Cu-W薄膜表面形貌的分形表征与电阻率   总被引:3,自引:0,他引:3       下载免费PDF全文
汪渊  徐可为 《物理学报》2004,53(3):900-904
磁控溅射制备铜钨薄膜,用原子力显微镜和功率谱密度法分析薄膜生长表面形貌的分形维数,发现频段的选择基本不影响分形维数与溅射时间的关系.随溅射时间延长,薄膜厚度增加,分形维数增大,电阻率随分形维数的增大而升高.分析分形维数与电阻率的关系,认为对同一物质的导电薄膜,其表面形貌与电阻率存在对应关系.  相似文献
9.
多晶薄膜屈服强度的一个模型   总被引:3,自引:1,他引:2       下载免费PDF全文
张建民  徐可为  张美荣 《物理学报》2003,52(5):1234-1239
从位错运动的应力功和应变能关系导出了附着在基体上并有钝化层薄膜的屈服强度公式.该式表明多晶薄膜的屈服强度由两个影响因子(晶粒取向和位错类型)和三个强化因子(钝化层强化,基体强化和晶粒强化)确定.和已报道的实验结果基本一致表明了该模型的合理性.  相似文献
10.
薄膜应力测定的X射线掠射法   总被引:3,自引:0,他引:3       下载免费PDF全文
薄膜应力可用x射线掠射法测量,2θ-sin2φ失去线性时,采用小角掠射,有可能使2θ-sin2φ恢复直线,并由斜率计算应力;2θ-sin2φ维持线性时,依次改变掠射角,可望对内应力沿膜厚分布做出评估。  相似文献
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