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A method for growing graphene on a sapphire substrate by depositing an SiC buffer layer and then annealing at high temperature in solid source molecular beam epitaxy(SSMBE) equipment was presented.The structural and electronic properties of the samples were characterized by reflection high energy diffraction(RHEED),X-ray diffraction Φ scans,Raman spectroscopy,and near edge X-ray absorption fine structure(NEXAFS) spectroscopy.The results of the RHEED and Φ scan,as well as the Raman spectra,showed that an epitaxial hexagonal α-SiC layer was grown on the sapphire substrate.The results of the Raman and NEXAFS spectra revealed that the graphene films with the AB Bernal stacking structure were formed on the sapphire substrate after annealing.The layer number of the graphene was between four and five,and the thickness of the unreacted SiC layer was about 1-1.5 nm. 相似文献
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A NEW METHOD TO ENHANCE THE MAGNETISM OF Fe OVERLAYER ON GaAs(100): SULFUR PASSIVATION USING CH3CSNH2 下载免费PDF全文
Ferromagnetic resonance (FMR) has been used to investigat the magnetism of Fe overlayer on S-passivated GaAs(lO0) pretreated by CH3CSNH2. Comparing with the magnetism of Fe overlayer on clean GaAs(100), we find that sulfur passivation can prevent Aa diffusion into Fe overlayer and weaken the interaction of As and Fe. It results in enhancing the magnetism of Fe overlayer on GaAs(100). We also investigate the effects of the pre-annealing of S- pasaivated GaAs(100) substrate on the magnetism of Fe overlayers. The results show that the maximum effective magnetization can be obtained at annealing temperature of 400℃. According to the experimental results of synchrotron radiation photoemission, it can be explained by the change of chemical composition and surface structure of the passivation layer on GaAs(100) surface after the annealing. 相似文献
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利用固源分子束外延(SSMBE)生长技术, 在1350K的衬底温度下, 通过改变Si束流强度, 在6H-SiC(0001)面上外延生长6H-SiC/3C-SiC/6H-SiC量子阱结构薄膜, 并用反射高能电子衍射(RHEED)与光致发光(PL)谱对生长的薄膜的晶型和发光特性进行表征. RHEED 结果显示生长的薄膜为6H-SiC/3C-SiC/6H-SiC量子阱结构薄膜. 室温下He-Gd激光激发的光致发光(PL)谱显示, 薄膜在480-600 nm范围内存在衬底未观察到的较强发光. 拟合得到的发光峰与依据量子阱结构模型计算出的发光位置较为一致. 由此表明, 该强发光带可能是6H-SiC/3C-SiC/6H-SiC量子阱结构的发光. 相似文献
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利用X射线吸收精细结构、X射线衍射和磁性测量等技术研究脉冲激光气相沉积法制备的Zn1-zCoxO(x=0.01,0.02)稀磁半导体薄膜的结构和磁性.磁性测量结果表明Zn1-xCoxO样品都具有室温铁磁性.X射线衍射结果显示其薄膜样品具有结晶良好的纤锌矿结构.荧光X射线吸收精细结构测试结果表明,脉冲激光气相沉积法制备的样品中的Co离子全部进入ZnO晶格中替代了部分Zn的格点位置,生成单一相的Zn1-xCoxO稀磁半导体.通过对X射线吸收近边结构谱的分析,确定Zn1-xCoxO薄膜中存在O空位,表明Co离子与O空位的相互作用是诱导Zn1-xCoxO产生室温铁磁性的主要原因. 相似文献
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利用同步辐射光电子能谱研究了低覆盖度Au在GaN(0001)表面的初始生长模式,肖特基势垒高 度以及界面的电子结构.结果表明,Au沉积初始阶段有界面的化学反应,随后呈三维岛状生长 .由光电子能谱实验确定的肖特基势垒高度为14 eV. 通过对界面价带谱和Au 4f芯能级谱 的分析,确定了界面化学反应的存在.利用线性缀加平面波方法计算了GaN(0001)和Au的价带 态密度并分析了化学反应产生的机理,认为在初始阶段界面形成了Au_Ga合金.
关键词:
同步辐射
光电子能谱
Au/GaN欧姆接触
态密度 相似文献
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报道了纤锌矿WZ(wurtzite)GaN(0001)表面的电子结构研究.采用全势线性缀加平面波方法计算得到了GaN分波态密度,与以前实验结果一致.讨论了Ga3d对GaN电子结构的影响.利用同步辐射角分辨光电子能谱技术研究了价带电子结构.通过改变光子能量的垂直出射谱勾画沿ΓA方向的体能带结构,与计算得到的能带结构符合得较好.根据沿ΓK和ΓM方向的非垂直出射谱,确定了两个表面态的能带色散
关键词:
GaN
角分辨光电发射
全势线性缀加平面波
电子结构 相似文献
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为研究钆在MgO薄膜表面吸附的特性,首先在经硫代乙酰胺(CH3CSNH2)处理的GaAs(100)表面外延生长P型半导体MgO(110)薄膜,然后利用同步辐射光电子能谱研究钆在此表面的吸附,结果发现由于Gd/MgO界面的能够弯曲使Mg2p向高结合能端位移0.4eV,而且从实验结果推断,钆与衬底反应很弱,并且主要以团簇的形式吸附。 相似文献
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利用同步辐射光电子能谱,研究了室温下在GaAs(100)表面上淀积的Mn的超薄膜的电子结构.实验发现,在θ<2ML的覆盖度下,Mn3d电子的能量态密度分布与体金属α-Mn差别很大当θ>2ML之后,便逐步接近α-Mn的体电子结构.这一结果可由Mn3d电子的自旋向上带和自旋向下带的交换分裂很好地解释.由此推断,当覆盖度θ<2ML时,在GaAs(100)表面上淀积的Mn的超薄膜具有磁有序结构
关键词: 相似文献