首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   5篇
  免费   0篇
  国内免费   3篇
化学   1篇
力学   6篇
物理学   1篇
  2023年   1篇
  2019年   1篇
  2016年   1篇
  2015年   1篇
  2007年   1篇
  2006年   1篇
  1981年   1篇
  1980年   1篇
排序方式: 共有8条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
为了实现液体折射率的高灵敏度测量,提出并制备了一种基于游标效应增敏的全光纤液体折射率传感器.该传感器由法布里-珀罗传感腔和法布里-珀罗参考腔并联构成,其中,传感腔为开放腔,由单模光纤错位熔接制得,参考腔为封闭腔,由单模光纤与空芯光纤熔接制得.传感腔和参考腔的自由光谱范围相近,但不相等,双腔反射光经光纤耦合器后叠加产生游标效应,达到增敏的效果.实验结果表明,该传感器的折射率灵敏度约为9 048.78nm/RIU,约是单个传感腔的8倍.该传感器具有灵敏度高、结构简单、易于制备、成本低廉的优点,在生物医疗、环境检测等领域有潜在的应用前景.  相似文献   
2.
涂层厚度对硬脆涂层结合强度的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
应用有限元分析的方法分析二维模型涂层层数以及涂层厚度对涂层/基体结合强度的影响已得到广泛研究。然而二维模型相比三维模型未能考虑宽度方向应力应变的影响,导致求解精度低。因此对三维模型涂层层数以及厚度对涂层/基体结合强度影响的研究显得实为重要,但这方面研究比较少。本文建立有限元三维模型,通过比较有限元模拟结果与赫兹接触精确解析解验证了模型的可靠性,讨论了涂层厚度对涂层/基体界面最大剪切力影响关系。结果表明,剪应力最小值随着涂层厚度的增加逐渐减小,然而剪应力最大值却随着厚度的增加先减小后增大,在0.4mm时取得最小值;随着涂层厚度的增加,涂层/基体结合处剪应力Z方向突变减小,涂层内部剪应力Z方向突变增大,但是突变位置向涂层表面靠近,而且涂层/基体结合处X方向的剪应力变化随着涂层厚度增加趋于平缓。  相似文献   
3.
Ti6Al4V合金表面激光熔覆复合涂层的高温摩擦学性能研究   总被引:3,自引:3,他引:0  
为了改善Ti6Al4V合金的摩擦学性能,采用预置NiCrBSiFe复合粉末激光熔覆制备高温耐磨复合涂层,分析了涂层的显微组织,测试了其显微硬度、室温(25℃)及高温(600℃)磨损性能,并分析了其机理.结果表明:复合涂层与钛合金基体为冶金结合,以γ-(Ni,Cr,Fe)固溶体为基体,原位生成的TiC、TiB_2和CrB增强相均匀分布于涂层中,涂层的平均硬度为HV0.5950,约为钛合金基体(HV0.5360)的3倍.室温下,由于涂层具有很高硬度,改善了钛合金表面严重的黏着磨损,涂层表现出优异的耐磨性;高温下,钛合金表面生成氧化膜表现出固体润滑效果,摩擦系数和磨损量均下降,而涂层中基体相硬度下降,磨损表面出现犁沟和破碎磨粒,摩擦系数和磨损率相比室温略有上升,但相比钛合金仍表现出较好的高温耐磨性.  相似文献   
4.
刘平  王永光  潘万章  黄明生  邓文基  童真 《中国化学》2006,24(10):1305-1308
The photophysical and electrochemical properties of a family of oligothiophene derivatives in solution werestudied.It was found that the cyano and the vinyl group could increase fluorescence yield in solution,while theformyl and carboxyl group could decrease energy gap.With increasing the chain length of thiophene ring,the oxi-dation potential could be decreased.  相似文献   
5.
本文介绍了对激光双焦点技术的研究结果。从理论上分析了在该技术中,粒子依次穿越焦点的概率,提出了实际测量这种概率的逻辑判别方法。这样,解决了激光双焦点测速中同一粒子的判别问题而且对从拉格朗日观点研究湍流扩散提供了一种新的手段。文中给出了拉格朗日相关系数与同一粒子穿越概率的关系式和该技术对空气自由射流速度测量的结果。  相似文献   
6.
基于分子量级的化学机械抛光界面动力学模型研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
考虑抛光液/芯片的相界面氧化剂浓度和芯片氧化薄膜缺陷对材料去除机理的影响,提出化学机械抛光(CMP)中材料去除机理的量级估算方法,应用化学动力学及传质学等理论估算氧化薄膜的扩散深度量级和生成速率,采用纳米压痕仪模拟单个磨粒在芯片表面的压痕作用,应用线性回归方法分析载荷70 nN下,磨粒压入芯片的深度量级为10-11 m.结合模型估算,证实了CMP材料去除机理为单分子层去除机理.结果表明,减小氧化膜厚度可以提高材料去除率,估算结果与他人试验结果相吻合.为进一步研究CMP单分子层材料去除机理提供了理论依据.  相似文献   
7.
近几年发展起来的激光双焦点测速技术具有信噪比高、电子系统工作频率低等优点,为解决高速流体(每秒数千米)的测量提供了可靠的手段.双焦点技术的发展改变了激光测速的单一多普勒式,大大开阔了激光测速技术的所及范围.  相似文献   
8.
为了有效改善氧化铝胶黏陶瓷涂层的腐蚀磨损特性及摩擦学性能,将聚四氟乙烯(PTFE)添加到氧化铝胶黏陶瓷涂层中,从而改善其腐蚀磨损特性及摩擦学性能.采用料浆法技术在A4钢基体表面制备了不同PTFE含量的胶黏陶瓷涂层,采用动电位极化曲线及电化学阻抗谱分析技术测试了不同组别胶黏陶瓷涂层耐腐蚀性能,利用材料表面性能综合测试仪分析了不同组别胶黏陶瓷涂层的摩擦学性能,并通过超景深三维显微镜表征了其腐蚀磨损形貌参数.相较于未添加PTFE,添加质量分数为0.2%PTFE的氧化铝胶黏陶瓷涂层耐腐蚀性能最为优异.当陶瓷涂层中PTFE的质量分数为0.2%时,A4钢表面涂层的腐蚀电流密度将从6.611×10-7 A/cm2降低至6.29×10-8 A/cm2,同时涂层的腐蚀电位将从2×10-3 V显著增加到8.9×10-2 V,主要归结于涂层CBPC2阻碍了O2及Cl-渗透,使渗透路径更加曲折,抗电解质渗透能力较强.与此同时,H  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号