纳米晶体光催化剂降解染料废水的最新研究进展

本文综述了近期光催化降解染料废水的研究进展，从光催化剂、反应条件、光降解反应产物及光催化降解染料废水的应用性四个方面介绍了其研究现状，指出今后的研究方向将集中在新型光催化剂的开发及光催化剂表面改性、光催化体系、光催化降解染料的反应机理及光催化剂与其它水处理技术的结合。     

High-k材料研究进展与存在的问题

随着集成电路的飞速发展，SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求，需要一种新型Hish-k材料来代替传统的SiO2，这就要综合考虑以下几个方面问题：(1)介电常数和势垒高度；(2)热稳定性；(3)薄膜形态；(4)界面质量；(5)与Si基栅兼容；(6)工艺兼容性；(7)可靠性。本文综述了几类High-k栅介质材料的研究现状及存在的问题。目前任何一种有望替代SiO2的栅介质材料都不能完全满足上述几点要求。但是，科学工作者们已经发现了几种有希望的Hihg-k候选材料。