Nafion膜表面亲水性研究

Ｎａｆｉｏｎ膜在电化学体系中的应用越来越广泛，而其表面亲水性往往直接影响着使用性能。本文介绍一种适宜于表征Ｎａｆｉｏｎ膜表面亲水性的接触角测量方法，即束缚气泡法，并讨论了该膜与水溶液接触角的滞后现象，溶液表面张力的影响，简介了用全氟表面活性剂改善Ｎａｆｉｏｎ膜表面亲水性的尝试。     

二氧化钛纳米微粒膜光电化学行为的研究

利用不同的制备方法制备出二氧化钛纳米微粒膜，对二氧化钛纳米微粒膜的光电化学材为和产生的机理进行了研究．结果表明；二氧化钛纳米微粒膜除了具有传统半导体的光电化学性质外，还具有不同于传统半导体的光电化学性质这主要是出膜的微粒性引起的，可综合传统半导体和胶粒半导体两种模型来加以解释。     

电沉积二氧化钛纳米微粒膜的光电化学性能和表面形貌研究

采用光电流谱，透射光谱和扫描探针显微镜技术对电沉积法制备的二氧化钛纳米微粒膜的光电化学性能和表面形貌进行了研究，结果表明，不同制备条件下的二氧化钛纳米微粒膜具有与紧密的半导体电极不同的光电化学性质，并探讨了其光电化学性能与表面形貌关系。     

锂－氧化铜电池反应机理──Ⅲ．放电电流对阴极过程的影响

利用光电化学方法和Ｘ射线衍射分析方法，研究了锂－氧化钢电池阴极还原反应．发现采用不同电流密度放电，该电池阴极过程有较大差别：放电电流密度较小时，电化学嵌入反应是主要的阴极过程；随放电电流密度的增大，经典的还原反应以越来越大的比例加入到放电过程中来．据此解释了文献报道中存在的一些矛盾现象．     

用全氟表面活性剂改善Nafion膜表面的亲水性

在Ｎａｆｉｏｎ膜表层引入全氟表面活性剂可改善膜表面的亲水性，其中全氟磺酸表面活性剂ＦＣ－９９效果好，经后者处理的Ｎａｆｉｏｎ膜几乎不溶胀，而能使水溶液在膜上的接触角显著减小，并改善“气泡效应（零间距效应）”。     

利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率

高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义，而硅是其中极为重要并占统制地位的材料，近年来，扫描电化学显微镜用于表面加工的研究颇受注目，然而，ＳＥＣＭ刻蚀分辨率往往因为刻蚀剂的横向扩散而受到限制。最后，田昭武等提出一种可进行高分辨率微加工的新方法－－约束刻蚀剂层技术，可使刻蚀反应具有高度的距离敏感性，刻蚀分辨率得到极大改善。我们利用ＣＥＬＴ技术刻蚀硅表面，以６０μｍ及１００μｍ直     

锂—氧化铜电池反应机理（Ⅰ）—光电化学方法研究阴极嵌入反应

采用光电化学方法现场研究了锂-氧化铜电池的嵌入反应,氧化铜电极光电流的变化直观地反映了该电化学嵌入过程.发现锂离子嵌入氧化铜电极的反应始于2.5V(vs.Li/Li~+),锂以施主杂质状态存在于氧化铜晶格中,改变了阴极的半导体性质.在较低电位下,可能有产生氧化亚铜的后续反应.     

免疫检测及核酸分析中的电化学方法

文介绍电化学方法在免疫检测及核酸分析中的应用. 鉴于有关方面的文献综述已有多篇,这里着重于已经商品化和临床应用的电化学分析技术. 希望从这些成功地应用于体外诊断的方法中得到一些启示,并提出作者个人对于该领域研究前景的看法.