首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   117篇
  免费   37篇
  国内免费   42篇
化学   77篇
晶体学   1篇
力学   8篇
综合类   2篇
数学   9篇
物理学   99篇
  2024年   2篇
  2023年   1篇
  2022年   1篇
  2021年   3篇
  2020年   1篇
  2019年   4篇
  2017年   3篇
  2016年   4篇
  2015年   6篇
  2014年   7篇
  2013年   8篇
  2012年   9篇
  2011年   5篇
  2010年   4篇
  2009年   3篇
  2008年   6篇
  2007年   7篇
  2006年   4篇
  2005年   8篇
  2004年   5篇
  2003年   4篇
  2002年   7篇
  2001年   11篇
  2000年   19篇
  1999年   10篇
  1998年   8篇
  1997年   6篇
  1996年   7篇
  1995年   4篇
  1994年   1篇
  1993年   6篇
  1992年   1篇
  1991年   9篇
  1990年   2篇
  1989年   2篇
  1988年   3篇
  1985年   2篇
  1983年   1篇
  1979年   1篇
  1975年   1篇
排序方式: 共有196条查询结果,搜索用时 656 毫秒
1.
Based on a bidirectional quantum key distribution protocol [Phys. Rev. A 70 (2004)012311], we propose a (m-1, m-1)-threshold scheme of m (m≥3)-party quantum secret sharing of key by using practical faint laser pulses. In our scheme, if all the m-1 sharers collaborate, they can obtain the joint secret key from the message sender. Our scheme is more feasible according to the present-day technology.  相似文献   
2.
We investigate the potential profiles and elemental distribution of barriers in Co/ZrAlOx/Co magnetic tunnel junctions (MTJs) using electron holography (EH) and scanning transmission electron microscopy. The MTJ barriers are introduced by oxidizing a bilayer consisting with a uniform 0.45-nm Al layer and a wedge-shaped Zr layer (0-2 nm). From the scanning transmission electron microscopy, AlOx and ZrOx layers are mixed together, indicating that compact AlOx layer cannot be formed in such a bilayer structure of barriers. The Eli results reveal that there are no sharp interfaces between the barrier and magnetic electrodes, which may be responsible for a smaller tunnelling magnetoresistance compared with the MTJs of Co/AlOx/Co.  相似文献   
3.
聚四氟乙烯材料表面激光改性与刻蚀   总被引:1,自引:0,他引:1  
刘爱华  张运海  满宝元 《光学学报》2006,26(7):073-1077
利用波长为248 nm的准分子激光束在不同激光能量密度下照射聚四氟乙烯(PTFE)材料的表面,并用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)、拉曼(Raman)光谱等手段对激光处理前后样品的表面形貌、化学成分和结构进行测量和分析,进而对激光与聚四氟乙烯相互作用的机理进行了研究。实验结果表明,激光辐照使聚四氟乙烯表面产生去氟效应,导致表面碳化、分子链的交联以及含氧基团的产生,随着激光能量密度的增加,C=C双键逐渐形成。这些结构的变化可以导致表面硬度和粘结性增强。激光能量密度的大小对照射后样品表面的物理性质和化学结构有着重要的影响,它是聚合物表面激光改性和烧蚀的关键因素。  相似文献   
4.
不同气压背景下激光烧蚀Al靶产生等离子体特性分析   总被引:2,自引:0,他引:2  
用时间和空间分辨诊断技术研究了脉冲激光烧蚀不同气压环境下金属Al靶过程中产生的等离子体羽的特性。  相似文献   
5.
分子氮配合物的研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
自第一个分子氮配合物[Ru(NH_3)_5N_2]~(2+)被发现以来,关于 N_2配合物的合成及配位N_2的反应和活化有极其广泛和大量的文献报道。尤其是在七十年代该项研究在世界范围内都是极为热门的研究课题,我国也进行了分子氮配合物的大协作研究。进入八十年代以来,分子氮配合物的研究虽然还是重大基础研究课  相似文献   
6.
Reaction of copper powder with 2-thenoyltrifluoroacetone and PPh3 yielded the complex [Cu(C8H4O2F3S)(PPh3)2], which have been characterized by elemental analysis and IR spectra. The crystal is monoclinic, space group P21/n , a=1.0584(1), b=1.6738(1), c=2.2728(9) nm; β =94.22(2); V =4.0152 nm 3; Z=4; Dc=1.299 g·cm-3; R=0.048, RW=0.054. Copper (Ⅰ) ion is coordinated by two O and two P atoms forming distorted tetrahedron.  相似文献   
7.
1,2-二乙炔基四苯基乙硅烷与1,2-二乙炔基四甲基乙硅烷在催化剂铑(Ⅰ)络合物[氯化三-(三苯基膦)铑]的作用下得到一种新的含硅共聚物。实验证明此共聚物的主链是有规交替结构。研究了固体薄膜及其溶液的光解作用,并测定了SbF_5蒸气处理后的共聚物薄膜的导电性。  相似文献   
8.
本工作合成了一系列十个新的零价钯混配配合物,并对这些配合物进行了表征.研究了配体的立体效应和电子效应的差别,讨论了配体间的相互作用.一.配合物的合成与组成据文献合成dba(PhCH=CHCOCH=CHPh)和Pd_2(dba)_3(CHCl_3).其余试剂及溶剂均为市售商品,用前经无水无氧处理.  相似文献   
9.
含双二苯基膦甲烷铜(Ⅰ)配合物的研究进展   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
本文概述了含双二苯基膦甲烷铜(Ⅰ)配合物的化学进展,总结了配合物的合成方法:置换法、还原法、电化学方法和直接加成法,全面论述了双核、三核、多核和异核配合物的结构特征,探讨了该类配合物的重要荧光性质。  相似文献   
10.
A series of novel hemicyanine dye-β-cyclodextrin compounds: mono-6-deoxy-β-cyclodextrin-6-[p-(p-substituted styryl)pyridium] p-totylfulfonates were synthesized by the condensation of mono-6-deoxy-β- cyclodextrin-6-(p-methyl pyridinium) p-toluenesulfonate with (un)substituted benzaldehydes. Their structures were established by 1^H NMR, IR, UV-Vis and elemental analysis. The absorption and fluorescence properties of the novel compounds were measured in solution and the photostability of a selected hemicyanine dye-β-cyclodextrin compound was also investigated.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号