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1.
碳苷合成研究——3-β-D-吡喃木糖基-1,2,4-氧杂二唑类化合物的合成 总被引:1,自引:0,他引:1
本文研究了1-(2,3,4-三-O-苯甲酰-β-D-吡喃木糖基)-偕氨基肟与酸酐及酰氯的缩合反应,探讨了不同缩合剂、不同取代基对环合反应的影响,与酸酐反应可以一步完成,且收率较好;与酰氯反应分两步进行,第一步酰化,第二步脱水环合,芳环上取代基的电性效应,决定环合反应的难易,并证明了该环系的碳苷对酸、碱、热具有化学稳定性,本文合成了12个氧杂二唑类木糖碳苷及2个木糖基化的开环产物,通过光谱及元素分析,确定了它们的结构。 相似文献
2.
采用裸露簇和嵌入簇模型, 对β-MnO2 (001), (110), (111)三个晶面以及O2在(110)晶面的单址吸附模式(Pauling和Griffths模式), 进行从头计算. 从β-MnO2 (001), (110), (111)三个晶面的电子结构差异以及O2在(110)晶面吸附的吸附能、几何结构、集居数以及净电荷数分析得到: (001), (110), (111)三个晶面中(110)晶面的催化活性最高, 其活性顺序为(110)>(111)>(001). 氧气在(110)晶面的吸附, Pauling和Griffths两种吸附模式均存在, 属于化学吸附中的离子吸附. 氧气与MnO2固体间发生了单电子转移, 氧气得到电子被还原成O2-, 转移电子属于整个体系, 具有离域性. 相似文献
3.
采用溶胶一凝胶方法制备了孔道结构复合材料H3PW12040/TiO2,采用ICP-AES,UV/DRS,^31PMAS NMR,TEM和N2吸附等技术对其组成和结构进行了表征.结果表明,催化剂中活性组分H3PW12O40的基本骨架结构未发生改变,H3PW12O40的担载量为22.29%,催化剂平均粒径为40nm,具有双孔结构,其平均微孔和介孔孔径分别为0.6l和3.06nm.考察了催化剂可见光光催化降解6种水溶性染料的性能.结果表明,6种染料均可不同程度地被降解和矿化.通过对染料中性红的光催化降解实验,比较了H3PW12040/TiO2,Degussa P-25和锐钛矿结构Ti02的可见光光催化活性,其中,H3PW12040/TiO2活性最高,且催化剂最易分离,可循环使用. 相似文献
4.
Molecular Recognition of Bridged Bis(β-cyclodextrin)s Linked by Phenylenediseleno Tether on the Primary or Secondary Side with Fluorescent Dyes 总被引:1,自引:0,他引:1
A Novel β-cyclodextrin dimer,2,2′-o-phenylenediseleno-bridgedbis(β-cyclodextrin)(2),has been synthesized by reaction ofmono-[2-O-(p-tolylsulfonyl)]-β-cyclodextrin and poly(o-phenylenediselenide).The complexation stability constants(K_s)and Gibbs free energy changes(-ΔG°)of dimer 2 with fourfluorescence dyes,that is,ammonium 8-anilino-1-naphthalene-sulfonate(ANS),sodium 6-(p-toluidino)-2-naphthalenesul-fonate(TNS),Acridine Red(AR)and Rhodamine B(RhB)have been determined in aqueous phosphate buffer solution(pH=7.2,0.1 mol·L~(-1)at 25℃ by means of fluorescence spec- 相似文献
5.
6.
建立了坑点型划痕的旋转抛物面模型, 用三维时域有限差分方法研究了熔石英后表面坑点型划痕随深度、 宽度、 间距以及酸蚀量变化对波长λ =355 nm入射激光的调制.研究表明, 这类划痕调制最强区位于相邻两坑点的连接区, 且越靠近表面调制越强.当其宽深比为2.0---3.5、 坑点间距约为坑点宽度的1/2时, 可获得最大光场调制, 最大光强增强因子(LIEF)为11.53; 当坑点间距大于坑点宽度时, 其调制大为减弱, 相当于单坑的场调制.对宽为60δ (δ =λ/12), 深和间距均为30δ的坑点型划痕进行刻蚀模拟, 刻蚀过程中最大LIEF为11.0, 当间距小于300 nm时, 相邻坑点由于衍射形成场贯通. 相似文献
7.
熔石英亚表面划痕对入射激光的近场调制是导致光学元件低阈值损伤的主要因素之一. 用三维时域有限差分方法研究了连续横向划痕的近场分布, 对比了尖锐截面与光滑截面场调制的差异, 着重探讨了光场调制与划痕宽深比R的关系. 研究表明: 酸蚀后的光滑截面有助于减弱近场调制, 这类划痕的R>10.0时调制较弱且相互接近, R<5.0时调制显著增强. 当R取1---3时, 亚表面的调制达最大值, 最大电场幅值为入射波幅值的4.3倍. 当R取1.0---3.5时, 缺陷附近有80%以上取样点的最大电场幅值超过入射波幅值的2倍. 随着深度的增大, 强场区具有明显的"趋肤效应": 位于划痕正下方的强场区首先往左右两侧移动, 然后移向抛物口界面以及水平界面, 同时衍生出的多条增强线诱导整个亚表面层的光场增强. 相似文献
8.
三甘醇是具有强烈吸湿性的粘稠液体,被用作石油天然气产品的新型干燥剂及脱水剂,在对三甘醇品质进行评价时,水分的含量是非常重要的指标。本文利用拉曼光谱技术,对三甘醇样品的拉曼光谱图进行采集,三甘醇标准品在波数129cm-1、321cm-1、531cm-1、830cm-1、886cm-1有较强的拉曼信号,以特征波数886cm-1的信号强度与对应的水分含量做标准曲线,得回归方程为y=-42.95x+4583.5,相关系数R2=0.9986,说明拉曼信号强度与三甘醇水分含量有良好的线性关系。选择水分含量为10%、15%、85%、95%的三甘醇溶液作为回测,平均回收率在90.1%~115.86%,相对标准偏差在0.43%~10.1%,该方法可准确检测三甘醇中的水分含量,且快速、操作简便、样品用量少,可用于现场检测。 相似文献
9.
10.
采用化学水浴沉淀法再结合溶胶-凝胶和程序升温溶剂热两步法制备了一系列不同比例的CdS/TiO2。通过XRD、XPS、SEM、UV-Vis/DRS等手段对所合成纳米复合材料的组成、结构和形貌等进行了表征。结果表明,该系列CdS/TiO2为锐钛矿TiO2和六方相CdS的混合晶相,其在可见光有较强吸收,并且随着复合材料中TiO2比例的增加,BET值明显增大。另外,所合成CdS/TiO2呈圆球形,颗粒比较均匀。紫外光催化降解甲基橙的实验结果表明,摩尔比为1:4的CdS/TiO2的活性明显高于CdS、P25以及其它不 相似文献