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方酸染料由于其吸收光谱往往呈尖锐的窄峰和具有很大的克分子消光系数(logε>5),同时具有好的热稳定性,可被用于吸收指定波长的激光,具有非常好的选择性.随着激光技术的迅猛发展,实现对激光威胁的防护已成为发展综合防护系统的关键技术需求.本课题从制备新型吸收型激光防护染料入手,设计合成了对532nm激光有高选择性和强吸收的具有不同取代基的方酸染料并研究其在特种树脂中、膜中和溶液中的吸光行为,为制造适合我国激光防护装具提供物质基础. 相似文献
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