熔石英后表面坑点型划痕对光场调制的近场模拟

建立了坑点型划痕的旋转抛物面模型, 用三维时域有限差分方法研究了熔石英后表面坑点型划痕随深度、 宽度、 间距以及酸蚀量变化对波长λ =355 nm入射激光的调制.研究表明, 这类划痕调制最强区位于相邻两坑点的连接区, 且越靠近表面调制越强.当其宽深比为2.0---3.5、 坑点间距约为坑点宽度的1/2时, 可获得最大光场调制, 最大光强增强因子(LIEF)为11.53; 当坑点间距大于坑点宽度时, 其调制大为减弱, 相当于单坑的场调制.对宽为60δ (δ =λ/12), 深和间距均为30δ的坑点型划痕进行刻蚀模拟, 刻蚀过程中最大LIEF为11.0, 当间距小于300 nm时, 相邻坑点由于衍射形成场贯通.     

横向划痕对光场调制的近场模拟

熔石英亚表面划痕对入射激光的近场调制是导致光学元件低阈值损伤的主要因素之一. 用三维时域有限差分方法研究了连续横向划痕的近场分布, 对比了尖锐截面与光滑截面场调制的差异, 着重探讨了光场调制与划痕宽深比R的关系. 研究表明: 酸蚀后的光滑截面有助于减弱近场调制, 这类划痕的R>10.0时调制较弱且相互接近, R<5.0时调制显著增强. 当R取1---3时, 亚表面的调制达最大值, 最大电场幅值为入射波幅值的4.3倍. 当R取1.0---3.5时, 缺陷附近有80%以上取样点的最大电场幅值超过入射波幅值的2倍. 随着深度的增大, 强场区具有明显的"趋肤效应": 位于划痕正下方的强场区首先往左右两侧移动, 然后移向抛物口界面以及水平界面, 同时衍生出的多条增强线诱导整个亚表面层的光场增强.     

Two localized CO2 laser treatment methods for mitigation of UV damage growth in fused silica

Two methods：high-power,short-time,single-shot irradiation（Method A） and low-power,long-time,multi-shot irradiation（Method B） are investigated to mitigate the UV damage growth in fused silica by using a 10.6-μm CO2 laser.To verify the mitigation effect of the two methods,the laser induced damage thresholds（LIDTs） of the mitigated sites are tested with a 355-nm,6.4-ns Nd：YAG laser,and the light modulation of the mitigation sites are tested with a 351-nm continuous Nd：YLF laser.The mitigated damaged sites treated with the two methods have almost the same LIDTs,which can recover to the level of pristine material.Compared with Method A,Method B produces mitigated sites with low crater depth and weak light modulation.In addition,there is no raised rim or re-deposited debris formed around the crater edge for Method B.Theoretical calculation is utilized to evaluate the central temperature of the CO2 laser beam irradiated zone and the radius of the crater.It is indicated that the calculated results are consistent with the experimental results.     

CO_2激光光栅式扫描修复熔石英表面缺陷的实验研究与数值模拟

基于熔石英材料对波长为10.6μm的CO2激光具有强吸收作用这一特点,提出采用CO2激光光栅式多次扫描修复熔石英光学元件表面密集分布的划痕和抛光点等缺陷的方法.实验结果表明,在合理的扫描参数下,元件表面的划痕和抛光点等缺陷可被充分地消除.损伤阈值测试结果表明,表面划痕和抛光点等缺陷被完全消除的元件的损伤阈值可回复到或超过基底的损伤阈值.同时结合有限元软件Ansys的模拟结果分析了CO2激光扫描修复及消除元件表面划痕和抛光点等缺陷的过程.本文为消除元件表面划痕和抛光点等缺陷提供了非常有意义的参考.     

过氧化氢氧化溴百里酚蓝催化动力学光度法测定痕量铁?

1 引言 溴百里酚蓝是一种氧化还原指示剂.实验发现,在酸性介质中铁?强烈催化过氧化氢氧化溴百里酚蓝褪色反应.据此,我们详细研究了该催化体系的反应条件以及共存离子的影响,建立了利用该反应体系测定痕量铁的新方法.本法用于水样中痕量铁?的测定,获得满意结果.     

Keggin结构杂多酸盐[(C2H5)4N]3[PMo12O40]单晶的水热合成及其结构表征

将苯基磷酸和CoCl2.6H2O,Na2MoO4.2H2O,MoO3混合,采用水热合成的方法制备出了标题化合物[(C2H5)4N]3[PMo12O40],并对其结构进行了X射线单晶衍射的测定.此晶体属于立方晶系,空间群为Cmca,晶体数据为a=1.9777(2)nm,b=1.6882(2)nm,c=1.7161(3)nm,α=90.00°,β=90.00°,γ=90.00°,V=5.7299(13)nm3,Z=4,R1=0.0533,wR2=0.1219.标题化合物含有四乙基胺阳离子和十二钼磷酸的阴离子,其中十二钼磷酸的阴离子具有典型的Keggin结构.     

8－羟基喹啉纤维微柱分离富集ICP－AES测定多种痕量元素

制备了８－羟基喹啉纤维滤纸片，作为微柱填充物，同时富集了九种痕量元素，并分离了样品中的高盐组分。富集后的痕量组分采用电感耦合等离子体原子发射光谱法（ＩＣＰ－ＡＥＳ）测定，回收率为９０％～１０２％。     

废水中痕量镉,镍的富集及测定

废水中痕量镉、镍的富集及测定刘春明田尚衣＊蒋桂华李红玫（长春师范学院化学系长春１３００３２）关键词液膜镉镍电感耦合等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）中图分类号Ｏ６５７．３１镍、镉等金属广泛用于电镀、电解及电池生产，属于危害人体健康的有毒元素。因此...     

8-羟基喹啉-5-磺酸纤维微柱分离富集电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定多种痕量元素

本文合成了8-羟基喹啉-5-磺酸纤维滤纸片,以此做为微柱填充物同时富集了10种痕量元素,并分离了样品中的高盐组分.本方法可使痕量组分的分离与富集同步进行,因而特别适用于原子光谱测定前样品的预处理.