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1.
 采用磁控溅射法制备了Zr-Mo膜,随后在低能静电加速器上分别采用剂量为2.80×1017~1.12 ×1018ions·cm-2的He+、H+离子辐照Zr-Mo膜,利用光学透镜、扫描电镜、原子力显微镜和X射线衍射研究He+、H+离子协同注入效应对Zr-Mo膜微观结构的影响。实验结果表明:原始Zr-Mo膜表层晶粒清晰可见,尺寸约为200nm;辐照效应可导致Zr-Mo膜表层产生微观损伤区域,在注He+基础上注H+导致Zr-Mo膜出现更为严重的损伤现象;离子注入的表面溅射效应可使膜面晶粒边界逐渐刻蚀退让,导致膜面更加光滑、细致;He+、H+ 离子协同注入可使Zr-Mo膜晶格发生畸变,注入期间未使Zr-Mo膜发生吸H相变生成氢化物。  相似文献   
2.
在平行板磁绝缘传输线中均匀电荷密度下,分别对压力平衡下的修正层流模型和非压力平衡和非层流模型进行了求解,比较了两种理论模型下的结果。分析表明:相对于非层流模型而言,层流模型因未考虑径向速度,其电荷密度偏低,阳极电场、阳极磁场及阳极电流都偏大。此外,粒子模拟结果显示非层流模型具有更高的精度。最后,对压力平衡条件、均匀电荷密度下的层流以及非层流模型,从平行板理论推广到一般构型。  相似文献   
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