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物理学
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1992年
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1.
新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺
金琦玢
李渡进
刘礼群
《光学技术》
1992,(2)
随着我国现代科学技术的发展,特别是激光技术、微电子学技术、空间技术的发展,对光学零件的精度要求不断的提高,因而出现了新的高精度设备“LP—1000”环形抛光机。本文主要根据我们使用“LP—1000”环形抛光机的实践。分析比较LP—1000环形抛光机与目前使用的“_ⅢP—350”三轴抛光机抛光机理的区别,其中包括两种抛光机的抛光机理、运动分析、受力分析及“LP—1000”抛光模的制造工艺,加工高精度光学零件易发生的问题和解决方法。
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