基于粗对准与精对准信号分开探测的对准系统

提出了一种用于光刻装置的对准系统。该对准系统所用的标记包含多个相位子光栅。其中,标记±1级衍射光的光强信息用于产生粗对准信号。在粗对准信号上,通过峰值检测和信号拟合获得最大峰值点,该峰值点即为粗对准位置。同时,在另一光路中,精细子光栅的±1级衍射光的光强信息用于产生精对准信号。利用余弦或正弦曲线对该精对准信号进行拟合,得到一系列的波峰点。距离粗对准位置最近的波峰点即为精对准位置。当精细子光栅的周期足够小时,该对准系统可获得5nm级的重复精度。