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为考察缢蛏育苗过程中光强的控制幅度, 研究了不同光照强度对缢蛏稚贝生长的影响. 试验分别选择1mm和5mm不同附着基厚度和4组不同光照强度试验, 时间为10d, 平均光强分别为A: (12244±5290)lx、B: (3792±2105)lx、C: (380±145)lx、D: (14±11)lx(光暗比12h:12h). 当附着基厚度为1mm时, 初始大小(0.26±0.02)mm缢蛏稚贝在A、B、C、D组的生长大小和成活率分别为(1.17±0.11)mm和(72.2±3.9)%、(1.25±0.12)mm和(84.6±4.1)%、(1.55±0.13)mm和(89.7± 4.5)%, (1.32±0.11)mm和(82.1±3.6)%. C组缢蛏稚贝生长大小和成活率都最大, 各组差异显著. 当附着基厚度为5mm时, 缢蛏稚贝在A、B、C、D组的生长大小和成活率分别为(1.48±0.12)mm和(86.3±3.7)%、(1.52±0.13)mm和(89.6±3.9)%、(1.62±0.14)mm和(88.4±4.0)%, (1.41±0.11)mm和(84.3±3.9)%. C组缢蛏稚贝生长大小和成活率都最大, 但是各组没有显著差异. 当实验对象换成较大(1.45±0.16)mm缢蛏稚贝, 光照强度对于薄附着基内稚贝的生长的影响更为明显. 结果表明: 光照强度对缢蛏稚贝生长有明显影响, 稚贝生长过程中最适的光照强度为(380±145)lx, 高于或低于此光照范围, 稚贝的生长率都会受到不同程度的抑制; 适当增加附着基厚度有利于高光强下大规格稚贝的发育生长.  相似文献   
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