衬底温度对PECVD氮化硅膜性质的影响

本文研究了PECVD氮化硅膜的性质与衬底温度的关系,对不同衬底温度的膜的折射率、腐蚀速率、介电特性进行了讨论;本文还指出,膜的导电机理符合Poole-Frenkel发射.C-V曲线的显著滞后效应表明,膜中存在高密度的陷阱。