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1.
直流磁控溅射工艺对SmCo薄膜的影响   总被引：1，自引：0，他引：1  
采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析, 用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能, 用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌.结果表明, 溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响.  相似文献   
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