含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元（1）;3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸（2）; 2经加成和酰氯化后,与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶（5）,其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明：5属于近晶型条带织构; 5具有较高的熔点和清亮点温度,液晶区间在180.34～251.11 ℃。