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1.
本文报导了具有N→B配位键的2,8,9-三氧杂-5-氮杂-1-硼杂双环[3,3,3]十一碳烷的合成及性质。化合物(1)的制备已有报导,而化合物(2),(3)则为新的化合物。我们研究了它们的成环条件,制备的最佳条件及化学稳定性。  相似文献   
2.
目所指的化合物晶体,属于正交晶系,所属的空间群为Pbca,其晶胞参数为:a=10.575,b=12.215,c=20.786,Z=8。在PW1100四圆衍射仪上收集了1839个独立的衍射数据(I_0>3a(I_0))。晶体结构用直接法解出,经全矩阵和块对角矩阵最小二乘法修正,偏离因子R收敛到0.062。结构测定表明,化合物分子中三个五员环各对应的扭角具有相同的方向,其中两个环的构型基本相同,第三个环略显不同。  相似文献   
3.
题目所指化合物晶体属单斜晶系,空间群P2_1/a,晶胞参数a=10.256,b=14.809,c=7.171,B=103.4°晶胞中分子数Z=4,晶体密度Dc=1.62gcm~(-3)。由直接法和傅里叶(Fourier)综合解得粗结构,经块对角矩阵最小二乘修正,偏离因子R为0.047。N→Si配位键键长为2.062,三个五员环近乎120°角相交,扭角分别为18.64°,19,34°和18.45°。环上的C(12),C(22),C(32)均偏离环的同一侧,三个环呈风扇形,两个氯原子与三个氧原子呈交叉构象。  相似文献   
4.
题目所指的化合物(NC_6H_(10)O_4Si-CH_2CH_2CH_2Cl)属正交晶系,所属空间群为P2_12_12_1。晶胞参数:a=12.943,b=11.477,c=8.273。Z=4。取1243个可观测独立反射数据,用直接法和Fourier综合解得粗结构,经最小二乘修正,偏离因子R为0.049。三个五员环(Si,O,C,C,N)都有一个较大的扭角,分别为23.7°,41.6°,42.8°。其中带羰基环的最大扭角相对较小(23.7°)。三环最小二乘平面间夹角接近120°,分子中的氯丙基-CH_2CH_2CH_2C1近乎在一个平面上折叠。  相似文献   
5.
杂氮硅三环类化合物由于其高的生物活性和对分子内存在五配位硅四配位氮间跨环结构的提出而引起人们广泛关注,其 N→Si 配位键的存在与否却至今引起争论。为此,作者曾用 X-射线光电子能谱(XPS)技术分别以直接对比的方式和从硅上带有不同取代基对 N→Si 配位键的影响两个侧面证实这类分子内 N→Si 配位键的存在,同时也做了 EHMO(扩展的 Hückel 分子轨道)计算处理,计算很好地说明作者的 XPS 实验结果。本文报道用 XPS 技术从另一个侧面:杂氮硅三  相似文献   
6.
题目所指的化合物是在β位引入羰基扩环而形成六元环的新化合物,是杂氮三环研究中一个有意义的结构模型。它属正交晶系,空间群为Pha2_1,晶胞参数为a=16.913,b=8.138,c=6.123;晶胞内所含的分子数Z=4;计算密度Dc=1.457g·cm~(-3)。 使用PW-1100四圆衍射仪,MoKα射线收集衍射强度。用直接法和付立叶综合解得结构,取3°≤2θ≤50°的630个可观测独立反射数据,经最小二乘法修正,最终偏离因子R=0.088。在化合物中,N→B键长为1.637。  相似文献   
7.
本文对杂氮硼三环进行了~(11)B NMR研究和CN DO/Ⅱ计算。实验和计算结果均证实了这类化合物分子中B←N配位键的存在。实验结果还表明,~(11)B化学位移受环的大小,取代基的性质与位置和立体位阻等因素的影响。计算结果还表明,B←N配位键的强度约为“纯共价双电子键”的一半左右,比杂氮硅三环类化合物中的Si←N配位键要强,因而也就更稳定。  相似文献   
8.
2,8,9-三氧杂-5-氮杂-1-硅双环[3,3,3]十一碳烷(简称杂氮硅三环)是一类具有五配位键的有机硅化合物。有关它的合成方法和其物理化学性质,文献中已报道甚多。但有关硅三环上与硅侧链相连接的有机基团的转换反应或其它反应研究的还很不够。我们认为进行这方面工作是很有意义的,因为一般硅三环都是从相应的三烷氧基硅烷与三乙醇胺反应制得。如果能从一种硅三环开始进行基团转換来得到一系列其它基团的硅三环,这就为这一类化合物的合成提供新路线。与此同时,还可研究硅三环在各种合成条件  相似文献   
9.
杂氮硼三环-3-酮的晶体属正交晶系,空间群为D_2~4-P2_12_12_1。晶胞参数a=17.098,b=7.709,c=5.712。晶胞内分子数Z=4,分子式为C_6O_4BNH_(10)。 X射线衍射强度数据由PW1100四圆衍射仪收集,采用CuKα辐射。独立衍射点832个,可观察点660个。用直接法(MULTAN-78)获得晶体结构,经全矩阵最小二乘法修正结构参数,R=0.074。最后沿N→B方向计算了分子的Newman投影。  相似文献   
10.
Twenty silatrane compounds with different substituents(R) on the silicon atom are studied by means of X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) and EHMO(extended Hückel molecular orbitals) theoretical calculation of the nine compounds in which substituents(R), F, Cl, Br, I, CH_3, H, CH=CH_2, CH_2Cl and CHCl_2, are carried out. By the X-ray photoelectron spectra of the component elements in these compounds, the existence of N→Si dative bond in these molecules is not only confirmed, but the affection of the different substituents on the strength of N→Si dative bond is also obtained. A linear correlation exists between atomic netcharge(Q) obtained by EHMO calculation and the binding energy shifts of N_1_g and Si_(2p) due to different substituents. The calculated bond orders can well predict the effect ou the strength of N→Si dative bond due to the change of substituents in the experiment. Meanwhile, the calculations indicate that the strength of N→Si dative bond in molecules of all substituents is about h  相似文献   
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