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1.
离子束生物工程应用研究进展   总被引:44,自引:0,他引:44  
吴丽芳  李红 《物理》1999,28(12):708-712
离子束生物工程是一门首先兴起于中国的交叉学科。虽然仅有10余年的发展历程,但已在诱变育种、植物转基因、生命起源和进化以及环境辐射与人类健康等方面取得了一些重要的阶段性研究结果,开辟了具有重要理论和应用价值的研究方向,为遗传工程相关领域提供了新的研究手段。随着离子束生物工程学的进一步发展,它还将在细胞另工、非对称细胞融合等方面发挥重要作用。  相似文献
2.
重离子束在诱变育种和分子改造中的应用   总被引:14,自引:4,他引:10  
重离子束具有与中性辐射X,γ和中子不同的特性,利用这些特性开展它在生物学领域内的应用和基础研究具有重要的理论和实际意义。简要阐述了这种应用的理论基础,以及多年来实践的一些工作与取得的结果。  相似文献
3.
采用了一种用离子束增强沉积从V2O5粉末直接制备VO2薄膜的新方法,将纯度为997%的V2O5粉末压成溅射靶,在用Ar离子束溅射的同时,用氩氢混合束对沉积膜作高剂量离子注入,使沉积膜中V2O5的V—O键断裂,进而被注入的氢还原,退火后获得热电阻温度系数(TCR)高达4%的VO2薄膜.高剂量的氩氢混合束注入对薄膜引入应力,使薄膜的转换温度降低、电阻温度曲线斜率变大,是薄膜TCR增大的原因  相似文献
4.
全息离子束刻蚀衍射光栅   总被引:13,自引:0,他引:13  
徐向东  洪义麟  傅绍军  王占山 《物理》2004,33(5):340-344
全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点.全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软x射线衍射光栅的制作.文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型、研究现状和应用进行了综述.  相似文献
5.
离子束介导技术在生物体遗传改良上的发展趋势   总被引:13,自引:3,他引:10  
在利用离子束介导技术对生物体进行遗传改良的研究领域内仍然存在着7大研究难题值得注意。明确提出了离子束介导技术进一步发展的技术思路,即立足于离子束介导技术这一物理学技术平台,注重研究两个关键性问题(即离子束介导异源遗传物质进入受体基因组的机理和受体发生异源基因重组的机制)。在研究中完成3个有效转变(从形态学鉴定为主有效地转变为对其遗传学规律进行研究,从对介导当代群体的变异效应的研究为主有效地转变为研究突变性状在多个世代内所表现的后效性,从对单一性状的研究为主有效地转变为研究突变性状的综合表现),寻找4个方面的实验证据(形态学、生理生化、细胞和分子生物学的证据),研究5大生物学特性(生殖特性、发育特性、光合特性、抗逆性和品质等特性)。  相似文献
6.
离子辅助沉积中离子束流密度的作用   总被引:13,自引:2,他引:11       下载免费PDF全文
测量了End-Hall离子源在不同条件下的离子束流密度,在不同离子束流密度下进行了Ar离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验,研究了离子束流密度对薄膜折射率、晶相的影响.根据动量传递模型分析了离子束流密度对薄膜折射率的作用;根据热尖峰理论证明了一定条件下离子束流密度不会影响薄膜晶体结构.  相似文献
7.
用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率   总被引:12,自引:8,他引:4  
介绍了用于波长为1550nm光通讯波分复用/解复用滤光片的离子束溅射的Ta2O5和SiO2薄膜在法里-珀罗多层膜中的折射率的实时所 方法及拟合方法及拟合结果,给出了它们的淀积时间,淀积速率和计算的光学厚度,分析了这些结果的可靠性。  相似文献
8.
强脉冲离子束辐照热-力学效应研究   总被引:12,自引:3,他引:9       下载免费PDF全文
 采用自行研制的ITSW软件通过数值模拟方法研究了不同能量离子束辐照材料时的能量沉积及所产生的烧蚀、喷射冲量及热激波等效应。  相似文献
9.
用离子束溅射方法制备的钛薄膜表面形貌分析   总被引:10,自引:4,他引:6  
用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量,通过数值相关运算,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面,并用粗糙指数、横向相关长度和标准偏差粗糙度对薄膜样品表面进行定量描述。利用自仿射分形表面的相关函数对数值运算的结果进行拟合,得出Ti薄膜生长界面的粗糙度指数α=0.72,相应的分形维数Df=2.28,并由此得到在离子束溅射工艺下Ti薄膜屑于守恒生长的结论,其生长动力学过程可用Kuramoto—Sivashinsky方程来描述。  相似文献
10.
纳米光刻技术   总被引:9,自引:0,他引:9  
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心。纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一,其制作技术是整个纳米技术的核心基础,已成为当前世界科学研究急需解决的问题。文章针对上前的科技发展情况,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题。详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及157光刻的原理和实现难点。作为下一代各种光刻技术,它们都有望实现  相似文献
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