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1.
二维材料MXene纳米片由于具有较大的比表面积和较高的电子迁移率而受到广泛的关注。本文采用基于密度泛函理论的第一性原理计算,对单层MXene纳米片Ti2N电磁特性的过渡金属(Sc、V、Zr)掺杂效应进行了系统研究。结果表明,所有过渡金属掺杂体系结合能均为负值,结构均稳定;其中Ti2N-Sc体系的形成能为-2.242 eV,结构更易形成,且保持稳定;掺杂后Ti2N-Sc、Ti2N-Zr体系磁矩增大;此外,Ti2N-Sc体系中保留了较高的自旋极化率,达到84.9%,可预测该体系在自旋电子学中具有潜在的应用价值。  相似文献   
2.
Thin-film composite of chitosan/nickel phthalocyanine (NiPc) was electrochemically deposited on the fingers of interdigitated gold electrodes, applying chronoamperometric polymerization technique. The presence of crystallized NiPc in the chitosan was confirmed by EDX and FTIR analysis. Acetone, ethanol, and methanol gas-sensing properties of the films prepared at optimum conditions were studied at atmospheric temperature, through differential measurements at an optimized frequency of 10 kHz, using a lock-in amplifier. The conductometric sensor presents the highest sensitivity of 60.2 μS.cm−1(v/v) for methanol and 700 ppm as the limit of detection. For validation, the methanol content of a commercial rubbing alcohol was determined.  相似文献   
3.
Zhengran Wang 《中国物理 B》2022,31(4):48202-048202
Excited-state double proton transfer (ESDPT) in the 1-[(2-hydroxy-3-methoxy-benzylidene)-hydrazonomethyl]-naphthalen-2-ol (HYDRAVH2) ligand was studied by the density functional theory and time-dependent density functional theory method. The analysis of frontier molecular orbitals, infrared spectra, and non-covalent interactions have cross-validated that the asymmetric structure has an influence on the proton transfer, which makes the proton transfer ability of the two hydrogen protons different. The potential energy surfaces in both S0 and S1 states were scanned with varying O-H bond lengths. The results of potential energy surface analysis adequately proved that the HYDRAVH2 can undergo the ESDPT process in the S1 state and the double proton transfer process is a stepwise proton transfer mechanism. Our work can pave the way towards the design and synthesis of new molecules.  相似文献   
4.
Diffusion processes can be followed directly by recording one-dimensional images of a selected slice at variable intervals after selective inversion of the magnetization. The resulting diffusion coefficients of H2O and DMSO are consistent with earlier studies at different temperatures, obtained by monitoring the attenuation of NMR signals as a function of the gradient amplitude in gradient echo sequences.  相似文献   
5.
陈华俊  朱鹏杰  陈咏雷  侯宝成 《中国物理 B》2022,31(2):27802-027802
We investigate theoretically Rabi-like splitting and Fano resonance in absorption spectra of quantum dots(QDs)based on a hybrid QD-semiconducting nanowire/superconductor(SNW/SC)device mediated by Majorana fermions(MFs).Under the condition of pump on-resonance and off-resonance,the absorption spectrum experiences the conversion from Fano resonance to Rabi-like splitting in different parametric regimes.In addition,the Fano resonances are accompanied by the rapid normal phase dispersion,which will indicate the coherent optical propagation.The results indicate that the group velocity index is tunable with controlling the interaction between the QD and MFs,which can reach the conversion between the fast-and slow-light.Fano resonance will be another method to detect MFs and our research may indicate prospective applications in quantum information processing based on the hybrid QD-SNW/SC devices.  相似文献   
6.
铋基卤化物材料因其无毒和优良的光电性能而显示出巨大的应用潜力。BiI3作为一种层状重金属半导体,已被用于X射线检测、γ射线检测和压力传感器等领域,最近其作为一种薄膜太阳能电池吸收材料备受关注。本文采用简单的气相输运沉积(VTD)法,以BiI3晶体粉末作为蒸发源,在玻璃基底上得到高质量c轴择优取向的BiI3薄膜。并通过研究蒸发源温度和沉积距离对薄膜物相和形貌的影响,分析了BiI3薄膜择优生长的机理。结果表明VTD法制备的BiI3薄膜属于三斜晶系,其光学带隙为~1.8 eV。沉积温度对薄膜的择优取向有较大影响,在沉积温度低于270 ℃时,沉积的薄膜具有沿c轴择优取向生长的特点,超过此温度,c轴择优取向生长消失。在衬底温度为250 ℃、沉积距离为15 cm时制备的薄膜结晶性能最好,晶体形貌为片状八面体。  相似文献   
7.
采用自主设计搭建的雾化辅助化学气相沉积系统设备,开展了Ga2O3薄膜制备及其特性研究工作。通过X射线衍射研究了沉积温度、系统沉积压差对Ga2O3薄膜结晶质量的影响。结果表明,Ga2O3在425~650 ℃温度区间存在物相转换关系。随着沉积温度从425 ℃升高至650 ℃,薄膜结晶分别由非晶态、纯α-Ga2O3结晶状态向α-Ga2O3、β-Ga2O3两相混合结晶状态改变。通过原子力显微镜表征探究了生长温度对Ga2O3薄膜表面形貌的影响,从475 ℃升高至650 ℃时,薄膜表面粗糙度由26.8 nm下降至24.8 nm。同时,高分辨X射线衍射仪测试表明475 ℃、5 Pa压差条件下的α-Ga2O3薄膜样品半峰全宽仅为190.8″,为高度结晶态的单晶α-Ga2O3薄膜材料。  相似文献   
8.
9.
将TiNi基记忆合金薄膜与光纤相结合可制成智能化、集成化且成本经济的微机电系统和微传感器件.本文采用磁控溅射法在二氧化硅光纤基底上制备TiNi记忆合金薄膜,系统讨论了溅射工艺参数以及后续退火处理对薄膜质量的影响.采用自研制光纤镀膜掩膜装置在直径为125μm的光纤圆周表面上形成均匀薄膜.实验表明:在靶基距、背底真空度、Ar气流量和溅射时间一定的条件下,溅射功率存在最佳值;溅射压强较大时,薄膜沉积速率较低,但薄膜表面粗糙度较小.进行退火处理后,薄膜形成较良好的晶体结构,Ti49.09Ni50.91薄膜中马氏体B19′相和奥氏体B2相共存,但以B19′为主.根据本文研究结果,在玻璃光纤基底上制备高质量的TiNi基记忆合金薄膜是可实现的,本工作为下一步研制微机电系统和微型传感器做了基础准备.  相似文献   
10.
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