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1.
2.
本文采用脉冲激光沉积方法在LaAlO3(001)单晶衬底上制备了反钙钛矿GaCMn3薄膜,通过控制制备过程中脉冲激光的能量,研究了不同激光能量条件对GaCMn3薄膜结构与物理性能的影响.分别利用X射线衍射仪、原子力显微镜、超导量子干涉仪和物理性能测试系统,对所制备的薄膜的晶体结构、表面形貌和磁性、电输运性质进行了研究.结果表明,制备的样品均为具有多个晶面取向的反钙钛矿薄膜,且薄膜结构和物性明显随制备激光能量的变化而变化.当激光能量为450mJ时,制备的薄膜多晶面取向性最弱,结晶性和表面形貌最优良.实验所得的薄膜均表现出顺磁-铁磁-反铁磁相转变,然而转变过程比块材较平缓,同时薄膜的电阻率并未表现出块材中的突变特征,我们推测该现象很可能是由衬底的应力及衬底的晶格膨胀对薄膜反常晶格变化的抑制作用造成的. 相似文献
3.
4.
We employ a first-principles plane wave method with the
relativistic analytic pseudopotential of Hartwigsen, Goedecker and Hutter
(HGH) scheme in the frame of DFT to calculate
the equilibrium lattice parameters and the thermodynamic properties of
AlB2 compound with hcp structure. The obtained lattice parameters are in
good agreement with the available experimental data and those calculated by
others. Through the quasi-harmonic Debye model, obtained successfully are
the dependences of the
normalized lattice parameters a/a0 and c/c0 on pressure P, the normalized
primitive cell volume V/V0 on pressure P, the variation of the thermal
expansion α with pressure P and temperature T, as well as the Debye
temperature \ThetaD and the heat capacity CV on pressure P and
temperature T. 相似文献
5.
推荐一个有机化学基础实验:BINOL的合成及拆分 总被引:3,自引:0,他引:3
推荐了一种简便、高效的 1,1′ 联 2 萘酚 (BINOL)的合成与拆分方法作为大学有机化学基础实验 相似文献
6.
非傍轴平顶高斯光束M2因子两种定义的比较研究 总被引:3,自引:2,他引:1
基于功率密度的二阶矩方法,推导出了非傍轴平顶高斯(FG)光束束宽和远场发散角的解析表达式·研究表明,当w0/λ→0时,远场发散角趋于渐近值θmax=63.435°,与阶数无关·使用非傍轴高斯光束代替傍轴高斯光束作为理想光束,研究了非傍轴FG光束的M2因子,并与传统定义的M2因子作了比较·在非傍轴范畴,非傍轴FG光束的M2因子不仅与阶数N有关,而且与w0/λ有关·按照定义,当w0/λ→0时,非傍轴FG光束的M2因子不等于0,对阶数N=1,2,3时,M2因子分别趋于0.913,0.882和0.886·当N→∞时,M2因子取最小值M2min=0.816· 相似文献
7.
基于校园网的实验管理系统的设计 总被引:2,自引:1,他引:1
主要讨论了应用实验室管理系统的必要性,并从用户需求分析、系统总体设计、功能模块的设计等方面对B/S实验室管理系统的开发进行了详细的阐述。 相似文献
8.
(Tm,Ho):YLF晶体激光器的实验研究 总被引:2,自引:1,他引:1
报道了一台连续792nmTi:Al2O3激光器纵向抽运的(Tm,Ho):YLF微片激光器。在室温条件下,当抽运功率为680mW时,激光器在2.06μm波长的输出功率达到90mW。激光器阈值为380mW,光光转换效率为13%,斜率效率为26%. 相似文献
9.
本文首先将文[1]中的BLD映射推广为弱(L1,L2)-BLD映射,并证明了如下正则性结果:存在两个可积指数 P1=P1(n,L1,L2)<n<q1=q1(n,L1,L2),使得对任意弱(L1,L2)-BLD映射f∈(Ω,Rn),都有f∈(Ω,Rn),即f为(L1,L2)-BLD映射. 相似文献
10.
利用脉冲激光淀积法(PLD)在α-Al2O3衬底上淀积了ZnO薄膜, 通过ZnO和α-Al2O3固相反应制备了具有ZnAl2O4覆盖层的α-Al2O3衬底. X射线衍射谱(XRD)表明ZnAl2O4薄膜随反应时间由单一(111)取向转变为多晶取向, 然后变为不完全的(111)择优取向. 同时扫描电子显微镜(SEM)照片表明ZnAl2O4表面形貌随反应时间由均匀的岛状结构先变为棒状结构, 然后再变为突起的线状结构. 另外, XRD谱显示低温制备的ZnAl2O4在高温下不稳定. 在ZnAl2O4覆盖的α-Al2O3衬底上利用光加热低压MOCVD法直接生长了GaN薄膜. XRD测量表明随ZnAl2O4厚度增加GaN由c轴单晶变为多晶, 单晶GaN的摇摆曲线半高宽为0.4°. 结果表明薄ZnAl2O4覆盖层的岛状结构有利于GaN生长初期的成核, 从而提高了GaN的晶体质量. 相似文献