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刘献铎 《应用声学》1987,6(4):15-15
R.J.von Gutfeld等人报道,以7.5MHz的聚焦声通过喷射器中心对基片镀金或铜,与单独的喷镀技术比较,在声场作用下,改善了金和铜镀层的电积结构.对两种方式喷镀的样品做扫描电子显微检查发现,有声场作用时,镀层具有较为致密的电积,有更为密集的柱状晶生长结构.而没有加声的镀层,其镀层结构较疏松,有枝蔓状晶生长.经测量,声-喷注镀  相似文献   
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