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1.
脆性光学材料的超声磨削实验研究   总被引:7,自引:0,他引:7  
分别采用超声磨削和普通磨削加工方法加工了几种脆性光学材料,研究了几种主要工艺参数对工件加工表面粗糙度的影响。结果表明,超声频率和振幅、金刚石磨料粒度、切深、工具的横向进给速度和旋转速度等工艺参数对表面粗糙度的影响较大。通过比较发现,超声磨削方法比普通磨削方法具有更好的加工表面粗糙度,更高的材料去除率,以及更低的工具磨损量。  相似文献
2.
气囊抛光工艺参数的正交实验分析   总被引:2,自引:0,他引:2  
针对平面光学零件,以抛光去除率和表面粗糙度为考核指标,应用正交试验法分析了气囊抛光过程中的主要工艺参数,包括抛光工具气囊的压缩量、气囊转速、气囊内部充气压力、抛光液的浓度对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律。结合气囊抛光的抛光机理对其进行了分析,根据实验结果对工艺参数进行了优化,并进行了综合参数的气囊抛光加工实验,获得了超精密光滑的表面。  相似文献
3.
4.
5.
大气等离子体加工反应过程中,等离子体发生装置的热稳定过程对去除率有直接影响,CF4是化学反应中活性F*原子的提供者,O2是重要的辅助气体。为了寻找这三者对大气等离子体加工反应过程的影响规律,采用大气等离子体加工系统进行加工、光谱仪监控等离子体反应过程的活性F*原子的光谱变化。实验结果表明,在大气压等离子体加工系统中:热稳定后,活性F*原子强度基本不随时间变化;随着CF4含量的增加,F*原子谱线轮廓发生了自吸收现象,这说明采用光谱法研究CF4含量对活性F*原子含量的影响是不完全准确的;由于O2易和CF4解离的中间产物反应,抑制活性粒子重新组合,因此一定范围内随着O2含量增加,活性F*原子增加。  相似文献
6.
介绍了螺旋锥齿轮超声研磨加工的方法,利用声学和超声空化的相关理论分析了超声研齿的材料去除方式,在齿面接触区具有旋转超声加工的特点,在非接触区,超声空化对齿面产生空蚀或者直接激励磨粒撞击和滑擦齿面,引起材料的去除。进行了超声研齿和普通研齿的对比试验,结果表明超声研齿的材料去除率可达到普通研磨的3倍,齿面粗糙度低至Ra0.2μm,水平截距c1.2μm。齿面研磨后的SEM照片证实,齿面质量明显提高。  相似文献
7.
针对球面光学零件,采用气囊抛光方法对其进行加工,以正交实验为实验方法,以球面光学零件材料去除率和表面粗糙度为目标,研究了5个主要影响因素(气囊压缩量、气囊转速、内部压力、抛光液浓度和工件曲率半径)对材料去除率和表面粗糙度的影响程度,并根据实验结果优选工艺参数,找出影响材料去除率和表面粗糙度的工艺参数优化组合。以去除率和表面粗糙度为目标工艺参数,在优选后的结果指导下,根据优选后的工艺参数,以控制表面粗糙度为目标,采用离散进动方式抛光球面光学零件,可获得超精密的光滑表面。  相似文献
8.
We examine the effect of cations in solutions containing benzotriazole (BTA) and H202 on copper chemical mechanical polishing (CMP). On the base of atomic force microscopy (AFM) and material removal rate (MRR) results, it is found that ammonia shows the highest MRR as well as good surface after CMP, while KOH demonstrates the worst performance. These results reveal a mechanism that small molecules with lone-pairs rather than molecules with steric effect and common inorganic cations are better for copper CMP process, which is indirectly confirmed by open circuit potential (OCP).  相似文献
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