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1.
利用表面等离子体共振效应,研究了金属镀层厚度对光纤表面等离子体波传感器的影响。在其它参量一定的情况下,不同金属膜层厚度的传感器对应着不同的共振波长,根据这一特性设计了分布式光纤表达等离子体波传感器。突出优点是能进行多点测量。  相似文献
2.
核弹头惰层厚度的反解方法   总被引:16,自引:0,他引:16       下载免费PDF全文
高分辨γ探测技术是一种可靠的核弹头核查技术.通过模拟计算和实验标定的方法,研究特定核弹头模型出壳γ射线强度与吸收材料厚度的关系,提出了一种简便的反解核弹头惰层厚度的方法,并讨论了该方法的应用条件.  相似文献
3.
孔洞厚度对高功率微波脉冲耦合的影响   总被引:16,自引:7,他引:9  
通过数值模拟研究了高功率微波脉冲与有限厚度孔洞的耦合过程,得出了孔洞厚度对高功率微波脉冲耦合的一些有用结果。  相似文献
4.
不同厚度溅射Ag膜的微结构及光学常数研究   总被引:14,自引:3,他引:11  
用直流溅射法在室温Si基片上制备了4.9nm-189.0nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析。结构分析表明:制备的Ag膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;随膜厚增加薄膜的平均晶粒心潮6.3nm逐渐增大到14.5nm;薄膜晶格常数均比标准值(0.40862nm)稍小,随膜厚增加,薄膜晶格常数由0.40585nm增大到0.40779nm。250nm-830nm光频范围椭偏光谱测量结果表明:与Johnson的厚Ag膜数据相比,我们制备的Ag薄膜光学折射率n总体上均增大,消光系数k变化复杂;在厚度为4.9nm-83.7nm范围内,实验薄膜的光学常数与Johnson数据差别很大,厚度小于33.3nm的实验薄膜k谱线中出现吸收峰,峰位由460nm红移至690nm处,且其对应的峰宽逐渐宽化;当膜厚达到约189nm时,实验薄膜与Johnson光学常数数据已基本趋于一致。  相似文献
5.
激光雷达探测北京城区夏季大气边界层   总被引:13,自引:0,他引:13       下载免费PDF全文
王珍珠  李炬  钟志庆  刘东  周军 《应用光学》2008,29(1):96-100
为了研究北京城区夏季大气边界层结构变化特征及大气边界层内气溶胶消光特性,2004年8月利用便携式米散射激光雷达对北京城区夏季大气边界层进行了系统观测。反演了观测站上空大气气溶胶的消光特性垂直分布以及大气边界层的高度。分析了气象条件和人类活动对大气边界层结构的影响。观测数据表明: 北京城区夏季大气边界层有明显的日变化特征,早晚比较低,日间有一个从低变高再变低的过程,中午前后达到最高。结合气象参数对测量数据进行的统计分析表明:北京城区夏季大气边界层高度相对稳定,多分布在1.8km以下,平均值为0.68km;大气边界层内存在浓度较高的气溶胶粒子,平均光学厚度(3km以内)在0.30左右。  相似文献
6.
基于透射谱的GaN薄膜厚度测量   总被引:10,自引:0,他引:10       下载免费PDF全文
张进城  郝跃  李培咸  范隆  冯倩 《物理学报》2004,53(4):1243-1246
通过对蓝宝石衬底异质外延GaN薄膜光学透射谱的分析,结合晶体薄膜的干涉效应原理并考虑折射率随光子波长变化的影响,从理论上推导出了实用的薄膜厚度计算方法. 实际应用表明,该方法是一种快速准确的GaN薄膜厚度测量方法. 关键词: GaN 透射谱 厚度测量  相似文献
7.
利用光学方法测量薄膜厚度的研究   总被引:10,自引:1,他引:9  
宋敏  李波欣  郑亚茹 《光学技术》2004,30(1):103-106
介绍了测量固体薄膜厚度的光学方法。分析了这些方法的光学原理,对所使用的光源、测量范围、测量精度、实现的难度以及方法所适用的场合等多种因素进行了比较分析,结果表明:对于厚度在10~100μm范围的固体薄膜而言,激光干涉法是一种简单、易于实现且测量精度较高的方法。  相似文献
8.
光学厚度对一维三元光子晶体禁带特性的影响   总被引:8,自引:1,他引:7       下载免费PDF全文
陈海波  高英俊  韩军婷 《光子学报》2008,37(11):2210-2212
运用光学传输矩阵理论,研究了一维三元光子晶体的禁带特性.数值模拟结果表明:最高折射率和最低折射率介质的光学厚度明显地影响其绝对禁带宽度,而较高折射率介质的光学厚度对其相对禁带宽度影响较大.与二元光子晶体相比,三元光子晶体的绝对带宽和相对带宽都远远大于二元光子晶体.  相似文献
9.
具有禁带展宽特性的一维光子晶体   总被引:8,自引:4,他引:4       下载免费PDF全文
提出了介质的光学厚度系数成圆形分布的一维光子晶体结构,与周期结构的光子晶体相比,该结构具有禁带展宽特性.同时讨论了起止膜层及膜层的光学厚度对该结构禁带特性的影响,优化出了在所选材料的介电常数所允许的频率范围内,具有完全禁带特征的光子晶体结构.  相似文献
10.
离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性   总被引:8,自引:0,他引:8  
用离子束溅射和离子辅助淀积技术制备DWDM滤光片的关键问题是必须获得优良的膜层厚度均匀性。采用实验修正膜层厚度修正板的办法获得了较好的均匀性分布 ,给出了实验配置、实验方法和实验结果 ,并对实验结果作了分析讨论  相似文献
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