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本文研究了不同温度下、磁场与具有双层结构的La1.4Sr1.6Mn2O7外延膜膜面成不同角度θ时的电子顺磁共振谱,并测量了此薄膜材料的输运性质,发现在任一温度下,θ对ab平面上的铁磁态产生的普峰的共振场位置几乎没有影响:而在c轴方向上的铁磁-顺磁转变温度Tc^c以下,θ对c轴方向上的铁磁态产生的谱峰的共振场位置有着显著的影响,其原因可能有两个,一是c轴和ab平面方向上的磁性质由于结构因素的影响存在着差异,即各向异性;二是在c轴方向上可能存在强烈的退磁效应,而在ab平面方向上退磁效应可以忽略不。输运性质测量表明外加磁场明显地抑制了样品的电阻率ρ,样品表现出较强的磁电阻效应。 相似文献
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以单分散SiO2 胶态晶体球形成的三维有序结构为模板 ,利用胶体晶模板技术合成了三维长程有序的二氧化锰大孔材料 .通过X射线粉末衍射 (XRD)和扫描电子显微镜 (SEM)对产物进行了表征 .其中XRD数据显示所得产物为纯四方相二氧化锰 .SEM结果表明 ,所合成的二氧化锰大孔材料孔大小均匀 ,空间排列高度有序 ,很好地复制了SiO2 胶态晶体球的自组装方式 .此外 ,对三维有序二氧化锰大孔材料的合成过程进行了分析 ,研究了前体填充次数对产物孔结构的完整性和有序性的影响 ,还发现产物孔径的收缩存在异常现象 . 相似文献
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采用SiCl4、CCl4和金属K体系 ,以溶剂热合成法在高压釜中制备了碳化硅 (SiC)单晶材料 .通过X射线粉末衍射 (XRD)、Raman光谱和透射电子显微镜 (TEM)对产物进行了表征 .其中XRD数据显示所得产物为碳化硅 .TEM结果表明 ,采用不同剂量的金属K ,所得产物分别为丝状和片状的SiC单晶 .SiC单晶丝直径为 10~2 0nm ,长度可达 1.5 μm ;SiC晶片的横向尺寸为 0 .1~ 3μm ,具有规则多面体外形 ,显示阶梯状生长侧面 .此外 ,对SiC单晶材料的生长机理进行了讨论 ,研究了过饱和度对SiC晶体生长和形貌的影响 . 相似文献
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纳米晶体ZnS:Mn2+中Mn2+粒子4T1→6A1的发光寿命比晶体减缩了5个量级,这颇令人费解,因为通常解除自旋禁戒的磁作用远无如此强的效应.假定基质态的自旋不为零,且考虑了Mn2+的d电子和基质之间的交换库仑作用.若基质存在比Mn2+的4T1激发态能量略高的某种激发态,则这种交换库仑作用将导致这两种激发态之间的混合,从而可解除发光能级弛豫中的自旋禁戒.这种混合随基质颗粒尺寸的减小而加强.我们并对此机制进行粗略的数值估计,给出了和实验相容的结果. 相似文献
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基于以前综合V-F模型(考虑施主受主(D-A)能量传递)和B模型(考虑施主施主(D-D)能量迁移)而提出的V-F-B综合模型,对La1-xErxF3体系中Er3+离子四种低掺杂浓度下(x=0.001,0.003,0.01,0.02)295K时4S3/2→4I15/2发光的时间演化曲线成功地重新进行了数值拟合.结果表明该体系内D-A间交叉弛豫能量传递是偶极-偶极作用,作用常数CDA为4.75×10-41cm6/s,与Okamoto等人原用YT扩散模型得到的结果一致.而拟合得到的四个D-D平均跳跃时间τ0粗略地与xDα次方(xD为D离子浓度)成正比(α≈-1.237),并不遵从τ0很小时与xD的-2次方成正比的理论关系.同时,通过把D-D迁移和D-A传递同时同样地纳入V-F模型还粗略估计了D-D平均跳跃时间τ0′的值,发现它与V-F-B给出的τ0拟合值比较一致,说明V-F-B模型在一定近似程度上是内部自恰的、合理的.
关键词:
能量传递
能量迁移
跳跃时间
交叉弛豫 相似文献
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高压下Na5Eu(WO4)4的光谱和晶场参数 总被引:1,自引:1,他引:0
四钨酸铕钠Na5Eu(WO4)4是化学计量的基质发光材料,发光来源于基质中高浓度的Eu3+.本工作用金刚石对顶砧显微高压光谱系统,在0~8GPa范围内研究了Na5Eu(WO4)4的Eu3+室温光谱,确定了各发射谱线在高压下的红移率.根据晶场理论,确定了Eu3+各能级用晶场参数表示的公式,并与高压下谱线位置实验值定出的能级值拟合,计算出晶场参数Bkq(kq=20、40、44、60、64)随压力的变化率ΔBkq/ΔP. 相似文献
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C60吸附在金属表面的计算研究 总被引:3,自引:0,他引:3
用离散变分局域密度泛函方法研究了C60在Al(111),Cu(111)和Ag(111)表面的电子结构性质。C60/金属界面系统通过用C24H12取代C60和用10个金属原子代表衬底来简化,计算了C60在金属衬底上的吸附高度,吸附能量及两者之间的电荷转移,发现C60与Al(111),Cu(111)和Ag(111)表面通过共价键(其中混杂少量的离子键)相结合。 相似文献