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1.
ICP-AES法测定锰铁中硅和磷方法研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
对ICP AES法测定锰铁中硅和磷的方法进行了研究。对微波消解试样及分析方法的各种参数进行了优化 ,包括溶样酸的选择 ,溶样温度和压力的控制 ,分析谱线的选择 ,试样基体、分析酸度和干扰元素对测定结果的影响。通过各种分析参数的优化选择实现了锰铁中硅和磷的同时测定 ,取得了满意的效果。线性相关系数 :Si=0 9998,P =0 9996 ,检测限为 :Si 0 0 0 6 0 % ,P 0 0 30 % ,硅的加标回收率在 97 0 %~10 1%。分析方法准确快速 ,试剂用量少 ,线性范围宽 ,适用于低碳、中碳及高碳锰铁中硅、磷的测定。  相似文献
2.
利用氢原子里德堡态飞行时间谱技术研究HN3分子在紫外光(190?248 nm)光照射下的H+N3通道的光解动力学结果.通过测量H+N3通道的产物平动能分布以及产物的角分布,得到了在不同波长光解下N3产物分子的振动态分布. 实验结果表明, 在大于225 nm时,HN3分子主要是通过一个排斥态解离的.而在低于225 nm时,有一个慢的通道从220 nm 开始出现.这一新的解离通道是一个闭环产生环状N3产物的通道.当光解能量增加时,这一新通道相对的变得越来越重要.  相似文献
3.
在CCSD(T)/6-311g(d,p)/B3LYP/6-311g(d,p)的基础上对F原子与反式的1,3-丁二烯的反应体系进行了理论研究.计算中发现,这个反应体系有两个形成中间复合物的通道.同时,理论计算结果表明,在交叉分子束的实验中探测到的H原子是通过这两个形成长寿命的中间复合物的通道产生的.而通过同一个复合物通道,生成C2H3 C2H3F的速率要比生成氢原子的低,在交叉分子束实验中要探测到C2H3 C2H3F通道也是很困难的.理论分析的结果还表明, HF也可能是反应中的一个产物,它主要是通过直接抽取反应产生的.  相似文献
4.
在新的势能面上,用准经典轨迹的方法对H H2反应体系进行了动力学研究.理论计算的结果发现,这个反应体系的前向和后向的角分布基本是对称的.同时还给出了在不同碰撞能下这个反应体系的转动态的分布情况.在碰撞能的从0.124到1.424 eV时,反应H H2的积分截面是随着碰撞能的增加而逐渐降低的.而且理论计算结果与实验结果也符合的非常好.  相似文献
5.
采用从头算CCSD(T)/6-311 G(2d,2p)//B3LYP/6-311G(d,p)方法,研究了自由基-分子反应F CH2CHCH3的各种不同的反应通道.该反应主要是通过复合物形成机制进行,即F分别加到碳碳双键的两端形成自由基复合物1和2.这两种亚稳态自由基会解离成三种产物:H C3H5F、CH3 C2H3F和HF C3H5.理论计算结果表明,生成CH3 C2H3F是反应的主要通道,而生成H C3H5F和HF C3H5对产物也有一定的贡献.这一结果和实验符合得很好.  相似文献
6.
利用高灵敏度的氢原子里德堡飞渡时间谱方法研究了 F H_2→HF H 反应碰撞能在5.02kJ/mol 下的交叉分子束反应态态散射动力学.所有在时间飞渡谱中被观测到的谱峰可以归属为 HF 产物的振转态结构.还观测到了明显的 HF(v’=3)前向散射,以及少许的 HF(v’=2)前向散射.  相似文献
7.
利用通用型交叉分子束研究了氯原子与硅烷的反应,观测到SiH3Cl+H通道. 测量到产物SiH3Cl在实验坐标下的角度分辨的飞行时间谱,获得了这个通道质心坐标下的产物角分布和动能分布. 结果表明,相对于氯原子束方向,产物SiH3Cl主要是后向散射,说明这个通道主要是通过典型的双分子亲核取代反应(SN2)机理进行的.  相似文献
8.
运用高分辨的H/D原子里德堡标记飞行时间谱方法,研究了F+HD→HF+D反应在5.43~18.73 kJ/mol十个碰撞能下的动力学过程. 获取了产物振转态分辨的微分截面. HF(v′=2)前向产物的强度随着碰撞能的增大而降低,表明随着碰撞能的增大共振贡献减弱. 当碰撞能高于HF(v′=3)产物的阈值能量时,观察到了该产物的前向散射峰. 分析了总能量在产物振动、转动和平动中的分配以及HF产物的振动分支比随碰撞能的变化关系.  相似文献
9.
运用高分辨的H原子里德堡标记飞行时间谱方法, 研究了F+HD→DF+H反应在碰撞能为8.19~18.98 kJ/mol的动力学过程. 获取了产物振转态分辨的微分截面. 在低碰撞能,DF产物主要为后向散射;随着碰撞能的增加侧向散射产物增强. 除了后向和侧向散射产物,还首次观察到了该反应中的DF(v′=4)前向散射产物. 随着碰撞能的增加,DF(v′=4)前向散射产物逐渐增强. 分析了总能量在产物振动、转动和平动中的分配随碰撞能以及散射角的变化;获得了DF产物的振动分支比随碰撞能的变化关系. 同时也对DF(v  相似文献
10.
李秀艳  王强 《光谱实验室》2011,28(4):1824-1828
运用涂膜法和UV-Vis-NIR反射光谱,提出了表征粉体材料能隙值的新方法。结果表明,当Vcoloed/VTiO2(有色粉体与钛白的体积比)小于5%时,通过反射光谱可得到表征材料在该波段吸波特性的Kubellka-Munk函数F,即F=(1-R∞)2/2R∞(R∞是涂层无限厚时的反射率)。将Kubellka-Munk函数F对波长(以电子伏特表示)作图,就可以得到表征材料能隙值的曲线。该方法操作简单,节省原料,同时由于去除了有色粉体粒子间的相互干扰,在实际研究中具有普遍性。  相似文献
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