金属和半导体表面声声子的光散射

作者使用非弹性光散射——布里渊散射技术,成功地测量了频率在1—20千兆赫范围内热激发的表面波。所研究的材料包括单晶半导体和单晶、多晶金属。被表面波散射的光很强,谱的峰也窄,因而能以0.1％的精度来确定它的波速。除了瑞利波外,还观察到了具有较高能量的连续的兰姆波。这个兰姆波带有一些材料表面的特征。     

声波在油管中的传播特性

随钻测井是七十年代末发展起来的新技术。由于它可以随时监测钻压、扭矩、泵压、井温、井压、泥浆性能,含油、气、水情况,使钻井人员能够及时而准确地了解井下参数,对钻井如何进行做出正确判断和决策。因此,随钻测井具有很大的经济效益,受到许多国家的重视。 随钻测井的关键问题是信号通道。与其它方法相比,声波随钻测井具有设备简单、费用低的优点,但低频干扰、传播距离等一些技术问题尚待解决。所以,该方法仍处于研究和试验阶段之中。 本文给出了声波在油管中传播时,油管的长度、接头、油管所在介质及发射频率对接收信号不同影响的测量结果。     

兆赫级超声清洗:一个新的用于半导体工艺中的清洗和烘干装置

在半导体器件制造的各个阶段用于清洗晶片的一个紧凑的装置已经研制成功。这个装置使用高频(0.8MHz到1MHz)超声能(这里用“兆赫级超声”这个词)和常温下的标准化学溶液。这项已获专利的工艺能同时从晶片的正反两面有效地除去直径约0.3μm的粒子、有机物薄膜和许多离子杂质。经简单漂洗后,晶片放在热气流中烘干。整个处理时间约15分钟,并且至少100片晶片能同时在石英或塑料支架上清洗,无需装上卸下。