微晶硅薄膜在粗糙表面的大面积均匀生长机制在

用氩气稀释硅烷作为反应气体,利用感应耦合等离子体在廉价衬底上大面积均匀沉积微晶硅薄膜．X射线衍射和拉曼分析表明衬底能显著地影响晶向,且微晶硅薄膜由小晶粒组成．台阶仪测试表明,微晶硅薄膜具有大范围均匀的特点．探针分析表明衬底附近区域的离子密度及电子温度分布均匀．基于以上结果可知：粗糙表面在晶体结构形成具有重要的作用,电感耦合等离子体反应器可以大面积均匀沉积薄膜．此外,氩气能影响反应过程并提高微晶硅薄膜特性．