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分析了溶液的微观结构,结果表明,单个溶质粒子影响其周围的溶剂的结构,溶质粒子间的相互作用也将影响溶剂的结构,溶质对溶剂结构的影响称作溶剂的重组织.提出了二阶重组织能及二阶重组织熵等概念,可以描述在两个溶质粒子发生碰撞时对其周围溶剂结构的影响.利用二元系的集团展开理论,给出了溶剂的一阶、二阶重组织能和重组织熵的表达式.统计热力学分析给出了溶剂-溶剂径向分布函数与溶质和溶剂化学势之间的关系,给出了无限稀溶液模型是否成立的宏观判据.提出的理论可用于低密度的二元溶液. 相似文献
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假定二元液态混合物分子间的相互作用势能可以表示成多体相互作用势能的和 ,分子间的力为短程力 ,相互作用势能只与分子间的相对距离有关 .利用分布函数理论导出了二元液态混合物的过剩内能和内压的公式 .二元液态混合物的过剩内能和内压可以表示成体积的幂级数形式 ,其中的系数可以用多体相互作用势和多体径向分布函数表出 .讨论了单元液体的内压和过剩内能的表达式 ,在两种特殊情形下 ,过剩内能和内压的表达式分别与Egelstaff的微扰论结果及Frank的实验结果具有相同的形式 .讨论了二元混合物内压和内能的两个特例 ,其一 ,在特殊情形下 ,给出了混合液体过剩内能的混合规则的一个证明 .其二 ,给出的二元混合物的过剩内能和内压的表达式与Frank的实验结果具有相同的形式 相似文献
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假定二元液态混合物分子间的相互作用势能可以表示成多体相互作用势能的和,分子间的力为短程力,相互作用势能只与分子间的相对距离有关.利用分布函数理论导出了二元液态混合物的过剩内能和内压的公式.二元液态混合物的过剩内能和内压可以表示成体积的幂级数形式,其中的系数可以用多体相互作用势和多体径向分布函数表出.讨论了单元液体的内压和过剩内能的表达式,在两种特殊情形下,过剩内能和内压的表达式分别与Egelstaff的微扰论结果及Frank的实验结果具有相同的形式.讨论了二元混合物内压和内能的两个特例,其一,在特殊情形下,给出了混合液体过剩内能的混合规则的一个证明.其二,给出的二元混合物的过剩内能和内压的表达式与Frank的实验结果具有相同的形式. 相似文献
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Left-Handed Properties in Two-Dimensional Photonic Crystals Formed by Holographic Lithography 下载免费PDF全文
We give an analysis of the frequency distribution trends in the four lowest bands of two-dimensional square lattices formed by holographic lithography (HL) and in the lattices of the same kind but with regular dielectric columns with increasing filling ratios, and then present a comparative study on the left-handed properties in these two kinds of structures using plane wave expansion method and finite-difference time-domain (FDTD) simulations. The results show that the left-handed properties are more likely to exist in structures with large high-epsilon filling ratios or in a connected lattice. 相似文献
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把二元溶液的过剩内能(excess energy)分成溶剂-溶剂、溶剂-溶质及溶质-溶质相互作用部分。利用集团展开方法给出了二元溶液在正则系综的配分函数的表达式,利用该表达式得到了溶质的偏摩尔内能(partial molar energy)和偏摩尔熵(partial molar entropy)的表达式。在无限稀溶液情形,过剩偏摩尔内能的溶剂-溶剂部分又称重组织内能(reorganization energy),它反映了溶质存在时对其周围溶剂分子之间的相互作用能的影响。研究表明,在溶质的粒子数密度相对较大时,溶质分子之间的相互作用将影响过过剩偏摩尔内能的溶剂-溶剂部分,对于稀溶液,过氧偏摩尔内能的溶剂-溶剂部分与溶质的摩尔分数成线性关系。对低蜜度二元溶液,溶质的过剩偏摩尔内能和过剩偏摩尔熵也与溶质的摩尔分数成线 相似文献
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Fabrication of Two-Dimensional Photonic Crystals with Controlled Defects by Combination of Holographic Lithography and Two-Photon Polymerization 下载免费PDF全文
A new ternary photopolymer system is used in fabricating photonic crystals (PhCs) with controlled defects by combination of single-photon and two-photon photopolymerization. The former process can produce PhCs in one-step recording with a low-power (tens mW) continuous-wave laser at 532nm, while the latter can create desired defects. The preparation of the material, the optical setup and the preliminary experimental results are given. Compared with other methods, this approach is much more accessible and convenient for use of visible light and has advantages of making PhCs in a large scale quickly and economicaJly and introducing any defects exactly, especially for three-dimensional structures. 相似文献
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系统研究了两步相移数字全息干涉术中相移误差引起的波前再现误差的计算和校正方法. 基于衍射物光相位分布的随机性和振幅相位的相互独立性原理,介绍了相移数字全息中物光波前再现误差的表达形式,推导出步长为π/2的两步算法中物光重建误差的表达式. 通过进一步分析这一重建误差的结构和特点,结合物光表达式,给出了自动校正相移误差引起的波前重建误差的校正方法. 该方法无需增加测量,在未知相移误差大小的情况下,只对标准两步相移算法恢复的物光复振幅进行处理就可以实现对物光振幅和相位的同时校正. 计算机模拟结果表明,校正后可将
关键词:
相移干涉术
数字全息
物光重建
误差校正 相似文献
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