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1
1.
溅射光学膜
黄天祥
《光学技术》
1981,(2)
<正> 制备固体薄膜的方法很多,其中真空蒸发和溅射是两种主要的方法,电子工业的迅速发展刺激了溅射技术的发展。三极溅射和四极溅射的出现,使溅射薄膜的质量和再现性均有提高。高频溅射更把溅射技术提高到一个新的水平。溅射技术主要应用在电学薄膜中,近十年来,在溅射光学介质薄膜方面也做了一定的工作。
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