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1.
在“星光-Ⅱ”装置上以类Ne铬x射线激光作为标定源,以平场光栅谱仪为分光元件进行了285nm的Mo/Si多层膜反射镜效率测量.介绍了实验方法,给出了实验结果,本次研制的两块多层膜镜反射率分别为31%和9.6%. 关键词: x射线多层膜反射镜 反射率测量 x射线激光  相似文献   
2.
极紫外多层膜制备工艺研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
王占山  马月英 《光学技术》2001,27(6):532-534
介绍了用平面磁控溅射方法制备极紫外多层膜的研究工作。围绕极紫外多层膜技术 ,重点探讨了多层膜膜厚定标和工艺过程对多层膜结构和内部成分的影响。为深入研究多层膜制备工艺指明了方向。  相似文献   
3.
叙述用离子束溅射镀膜机OXFORD进行X射线长波段多层膜实验及制备X射线多层膜光学元件方面的工作。简述离子束油射镀膜机的工作原理,X射线多层膜的制备过程,主要工艺参数,以及用X射线小角衍射仪对制备样品周期结构的检测和用软X射线反射率计测反射率的部分结果。  相似文献   
4.
均匀软X射线多层膜制备方法研究   总被引:2,自引:1,他引:1       下载免费PDF全文
 介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍。  相似文献   
5.
正入射Mo/B_4C软X射线多层膜   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用Mo/B4C材料在短波长波段(λ<10.0nm)进行软X射线多层膜实验研究。在指定波长(8.0nm附近)处对多层膜进行结构设计,并制备出了周期结构准确的Mo/B4C多层膜样品。  相似文献   
6.
叙述了Schwarzschild型正入射软X射线多层膜显微成像系统的设计、制作和成像实验,其工作波长为18.2nm,放大倍数为10.5×,极限分辨率小于0.2μm。采用Mo/Si多层膜,周期和层数分别为9.5nm和41。用激光等离子体光源对20pl/mm和55pl/mm的栅网进行了软X射线显微成像实验,所得结果表明此显微成像系统的分辨率在微米量级。  相似文献   
7.
极紫外投影光刻原理装置的集成研究   总被引:3,自引:3,他引:0  
论述了光刻技术发展的历程,趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作,该装置由激光等离子体光源,掠入射椭球聚光镜,透射掩模,施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成,其工作波长为13nm,在直径为0.1mm的像方视场内设计分辨率优于0.1um。  相似文献   
8.
Mo/B4C软X射线多层膜结构特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
在6.7<λ<10.0nm波段选择Mo/B4C作为多层膜材料,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品.这些多层膜样品的周期结构为3.35nm~5.52nm.采用X射线衍射仪和透射电镜(TEM)对样品的微观结构进行研究.结构表明,这些多层膜样品的结构质量很高,并有很好的热稳定性.  相似文献   
9.
X光多层膜反射镜的损伤与破坏实验研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
 产生X光激光的等离子体环境对X光多层膜反射镜造成损伤与破坏。通过模拟实验,给出国产Mo/Si多层膜反射镜的破坏阈值大约是0.10J/cm2,在这个辐照剂量下,多层膜表面均方粗糙度明显增加,反射率几乎降至为零。提出了防止多层膜反射镜破坏的一些想法。  相似文献   
10.
X射线布拉格-菲涅耳光学元件的实验研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上的形成布拉格-菲涅耳元件所需的波带片图形,通过离子束刻蚀方法将波带片图形转写到多层膜上,完成元件的制作,给出布拉格-菲涅耳光学元件测量结果,测量结果表明上述方法适于制作布拉格-菲涅耳元件。  相似文献   
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