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1.
高能球磨和低温烧结制备高电位梯度ZnO厚膜压敏电阻   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过高能球磨和低温烧结,制备出高电位梯度的ZnO厚膜压敏电阻,并研究了烧结温度对厚膜试样电学性能的影响.结果表明,高能球磨可显著细化粉体颗粒,球磨后颗粒的平均尺寸减小到0.420μm;颗粒的高度细化促使厚膜可在650-850℃的低温范围烧结成瓷,其中在700℃的烧结条件下,厚膜试样的综合性能最佳,电位梯度达到3175.6 V·mm-1,漏电流为30.7μA,非线性系数为13,微观势垒高度为0.79eV,耗尽层宽度为14.4nm,施主浓度为2.24×1018cm-3,表面态密度为3.22×1012cm-2.  相似文献   
2.
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(100)上成功生长了高度c轴取向的AlN薄膜,并以此为衬底,实现了ZnO薄膜的低温准外延生长。通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及荧光分光光度计表征ZnO薄膜的结构、表面形貌和发光性能。结果表明,ZnO薄膜能在AlN过渡层上沿c轴准外延生长,采用AlN过渡层后,其荧光强度也有大幅提高。  相似文献   
3.
A metastable alloy with composition Fe60Cu40 can be prepared in single phase of a fcc structure by mechanical alloying, although Fe-Cu system is virtually immiscible in its equilibrium state at ambient temperature. The M?ssbauer spectra of this supersaturated solid solution could be fitted by two subspectra whose hyperfine magnetic fields are 200 kOe and 250kOe. In this metastable alloy, the iron atoms at the interface are easy to form clusters characterized as α-Fe at a temperature below 250℃, whereas the iron atoms in the body will cluster together at a higher temperature above 350℃ and behave as γ-Fe, and then transform to ferromagnetic bcc iron occurs.  相似文献   
4.
新型Zr-Ti-Cu-Ni-Be-Fe大块非晶合金的形成及性能 *   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
报道了新型块状、高强度Zr-Ti-Cu-Ni-Be-Fe非晶合金的形成及物性的研究结果 ,研究了铁原子组元对Zr-Ti-Cu-Ni-Be-Fe大块非晶形成能力、硬度、磁化率及热稳定性的影响 ,探讨了铁在这种大块非晶合金形成中所起的作用 .  相似文献   
5.
采用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了Ni0.7Zn0.3O薄膜,通过热处理改变薄膜的缺陷状态,并利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪表征薄膜的晶体结构、表面形貌和缺陷发光特性。结果表明:沉积态薄膜为立方结构的Ni0.7Zn0.3O单相,且沿着(200)面高度取向生长。经过热处理后,薄膜形成ZnO和Ni0.7Zn0.3O两相共存的镶嵌结构。样品具有非常丰富的室温荧光光谱,其发光峰主要来自Ni0.7Zn0.3O的缺陷能级跃迁,多缺陷能级导致了多发光峰的荧光光谱。热处理引起薄膜中缺陷的种类和浓度发生变化,严重影响其发光特性。  相似文献   
6.
TiO_2晶型及其相变的高温拉曼光谱研究   总被引:8,自引:4,他引:4  
本文测量了锐钛矿型和金红石型TiO2常温至1923K的高温拉曼光谱,观察了锐钛矿型TiO2在1373K~1473K间发生相变,不可逆转化为金红石型TiO2,分析了特征峰随温度变化的规律以及两种结构相的温度依赖性。并为不同晶型TiO2的研究、生产和应用提供重要的实验依据。  相似文献   
7.
采用脉冲激光沉积技术(PLD),室温下在柔性衬底PET上制备了高度c轴择优取向的Al掺杂ZnO薄膜。XRD分析表明,不同Al掺杂浓度的样品均呈现单一的ZnO相。荧光光谱和透射光谱分析显示,低温低氧压下制备的Al掺杂ZnO薄膜在紫光区域有很强的荧光发射,在可见光区域具有较高的透射率;并且可以通过Al掺杂浓度调节薄膜紫色发光强度和薄膜带隙。薄膜的电阻率随着Al掺杂浓度的增加先降低后增加,在掺杂浓度为3%原子分数时达到最小值。  相似文献   
8.
Ni掺杂ZnO薄膜的荧光特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si衬底上制备了Ni掺杂的ZnO薄膜,通过VARAIN CaryEclips 500型荧光光谱仪研究了样品的荧光特性.观察到360和380 nm左右2个荧光峰.通过Ni掺杂,研究了360 nm左右荧光峰的起源.结果表明,随着靶材中Ni掺杂量的不同,荧光峰峰位不变,而相应的发光强度发生了明显的变化.当靶材中Ni:ZnO的摩尔比Xs为5%时,样品中360 nm紫外荧光峰的发光强度最佳,表明360 nm左右荧光峰并不是重掺杂后杂质能级深入到导带的结果,有可能是起源于分裂的价带与导带间的复合跃迁.  相似文献   
9.
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si衬底上制备了ZnO-SiO2复合薄膜。分别用SEM、XRD观察了样品在沉积态(300℃)及700℃和900℃下热退火后的形貌和结构。发现经700℃热处理后,样品中有第三相β-Zn2SiO4形成,经900℃热处理后的样品中硅锌矿型Zn2SiO4取代了β-Zn2SiO4成为第三相。研究了热退火处理前后样品的荧光特性变化,结果表明经700℃热处理后,荧光光谱与沉积态相比,紫外区域的发光强度有较大提高,可见光区域的宽带强度变弱;经900℃热处理后,紫外区域荧光强度与700℃处理相比略有减小,可见光发光带消失。  相似文献   
10.
室温下,采用脉冲激光沉积方法在Si(100)衬底上制备了YMnO3薄膜,并对其进行了不同温度的退火处理。采用X射线衍射和荧光光谱分析方法对薄膜的结构和荧光特性进行了研究。结果表明:通过退火处理,可以得到正交相和六方相共存的多晶态YMnO3薄膜,并且随着退火温度的升高,两相的比例发生变化,由正交相为主转变为六方相为主。YMnO3薄膜样品的荧光发射峰集中在波长430~620nm范围内,可能是由Mn3 离子从5T2到5E之间的能级跃迁所引起的。其荧光强度随着退火温度的升高逐渐增强,但峰位基本保持不变,说明薄膜结构的改变对Mn3 离子的能级跃迁几率有明显的影响,对能级位置的影响不大;而且荧光光谱还显示在同一薄膜中各个荧光峰的相对强度随着退火温度的变化不大。  相似文献   
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