掺Eu3+离子Y2SiO5晶体格位选择光谱研究

分别利用白光灯、４５７－９ ｎｍ 氩离子激光、二倍频ＹＡＧ∶Ｎｄ 激光泵浦的诺丹明６Ｇ 可调谐窄线宽（０－５ ｃｍ －１） 染料激光作为光源， 以单色仪锁相放大器光电倍增管计算机数据采集系统记录光谱， 测量并研究了Ｙ２ＳｉＯ５∶Ｅｕ３ ＋ 晶体的透射光谱、荧光光谱、激发光谱和格位选择荧光光谱。５Ｄ０ →７Ｆ０，１ ，２ ，３，４ 跃迁，３０ 多根谱线（总数为５０ 根） 被观察到。在该晶体中Ｅｕ３＋ 替换Ｙ３＋ 离子， 占据两个较低对称性的光学格位， 这两个格位的５Ｄ０ ７Ｆ０ 能级跃迁谱线相隔大约只有０－２ ｎｍ ， 在室温下有一定的光谱关联。并用Ｘ射线谱对晶体的晶格常数ａ ， ｂ，ｃ 和晶面角度β进行测量， 测量结果显示掺杂后的晶格常数和未掺杂的Ｙ２ＳｉＯ５ 晶格常数基本一致。     

持久光谱烧孔动力学的理论模型和实验研究

建立了单光子光化烧孔的三能级模型，求解了反映质子转位变构机制的速率方程组，推导了成孔过程的动力学特性，获得了可与实验进行比较的解析解．用时域和频域两种方法测量了ＴＨＰ／ＰＭＭＡ和ＴＭＰ／ＰＭＭＡ薄膜样品光谱烧孔的动力学过程，得到与理论分析一致的规律，并测得了有效成孔速率和成孔时间等参数．这些参数对于评价频域光存贮材料性能有一定意义．     

用斯塔克光谱技术研究酞菁锡薄膜中的激子跃迁和电荷转移

采用斯塔克光谱技术研究了酞菁锡多晶薄膜中的激子跃迁和电荷转移。观察到一系列分子间电荷转移所形成的双分子激子谱带，显示了斯塔克光谱技术在探测淹没于弗伦克尔激子带下面的微弱电荷转移跃迁方面具有独特的优点和很高的灵敏度。     

稀土离子Eu3+掺杂Y2SiO5晶体的光谱和结构研究

用５１４．５ｎｍ、４８８．０ｎｍ的Ａｒ＾＋激光和４４１．６ｎｍ的Ｈｅ－Ｃｄ激光激发Ｅｕ＾２＋：Ｙ２ＳｉＯ５晶体的获得了一系列窄带荧光谱线,其中双重谱线结构源于Ｅｕ３＾＋离子发光中在该材料中占据两种不等价的非对称光学格位,测得了Ｅｕ＾３＋：Ｙ２ＳｉＯ５的Ｘ射线多晶衍射谱的面间距数据;计算了晶格常数和晶在角度,通过和非掺杂Ｙ２ＳｉＯ５晶体数据的比较,探讨了Ｅｕ＾２＋和Ｙ２ＳｉＯ５格位的相互影响。     

579.62 nm波长处Y2SiO5:Eu3+晶体永久性光谱烧孔

分别利用氩离子激光，二倍频YAG：Nd激光泵浦的诺明6G可调谐窄线宽（0．5cm^-1）染料激光和899-21可调谐染料激光作为光源，以单色仪-锁相放大器-光电倍增管-计算机数据采集系统记录光谱，对Y2SiO5：Eu^3＋晶体进行了光谱和光谱烧孔研究。在常温和液氮温度下测量了晶体的激发光谱、荧光光谱等。在16K温度下对晶体进行了光谱烧孔研究，得到了孔宽约80MHz并能保存10h的永久性光谱孔。     

钒氧酞菁的合成及其薄膜结构与光电性能的研究

自从60年前^[1]金属酞菁被发现以来,就引起人们的广泛兴趣,其原因主要在于它们在染料颜料、光化学、催化、和成像中的应用. 和许多其它酞菁衍生物一样,钒氧酞菁具有光导和半导体特性,这使得它在光电子学、电子成像、化学传感器、甚至于微电子器件中有潜在的十分光明的应用前景^[2]. 例如, 钒氧酞菁在电子成像体系中已成为有用的感光材料. 近年来,金属酞菁等有机材料的结晶薄膜开始不断地吸引人们的注意力. 人们考察了不同的金属酞菁如: 酞菁铜、酞菁铅、酞菁镍、和酞菁锡 等的光电导和光电压^[3]. 通常酞菁以几种不同的多晶异构体、即以不同的晶体排列结构方式存在. 因此,其光电特性不仅取决于分子中心的金属原子、而且取决于它们的晶体结构. 总之,值得我们研究钒氧酞菁薄膜的光电特性以及它与吸收光谱和薄膜晶体结构的关系.     

细菌视紫红质膜的光吸收非线性特性研究

对细菌视紫红质（ＢＲ）膜的光学吸收非性进行了研究,分别测量了细菌视紫红质光照前后的光吸收谱,结果显示它的吸收发生了明显的变化。用Ｚ扫描法研究了它的光学非线性,理论计算的结果表明它具有较大的光学非线性系数,且测量它的透过率随光强变化的关系曲线和理论模拟发现它对６３２．８ｎｍ波和匠光具有饱和吸收特性。     

ANISOTROPIC SPECTRAL HOLES IN ORANGIC PHB MAERIALS

More than 300% anisotropic persistent spectral holes were written in and read out in some materials such as THP/PMMA and TMP/PMMA with high signal-to-noise ratio by CW linearly polarized light. The effect of probe angle and modulation field on the hole depth and hole shape were also interpreted by using polarisation spectra hole burning theroy.     

卟啉类有机体系THP／PMMA的永久性光谱烧孔

首次报道了四-对羟基苯基卟吩/有机玻璃体系(THP/PMMA)的单光子永久性光谱烧孔.研究了烧孔特性和成孔条件.测量了孔的稳定性,在液氦温度下孔的保存时间已超过几个小时.实现了孔的擦除和重复烧孔.探讨了烧孔机制,认为激光诱导质子转位变构是导致该体系永久性光谱烧孔的原因.     

Spectral Hole-Burning of Eu^3＋：Y2SiO5 Crystal at 16 K

By using an Ar^＋ ion laser, a tunable Rh 6G dye laser （linewidth 0.5cm^-1） pumped by the second harmonic of a YAG：Nd laser and a Coherent 899-21 dye laser as light sources and using a monochromator, a phase-locking amplifier and a computer as the data detecting system, we detect the optical properties of Eu^3＋-doped Y2SiO5 crystal. Persistent ,spectral hole burning （PSHB） are observed in the Eu^3＋ ions spectral lines （^5 Do-T Fo transition） in the crystal at the temperature of 16K. For 15mW dye laser burning the crystal for 0.1 s spectral holes with hole width about 80 MHz both at 579.62nm and at 579.82nm are detected and the holes can remain for a long time, more than 10h.