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1.
27keV的Ar+离子垂直轰击处于不同温度的Cd靶,用捕获膜技术和Rutherford背散射谱仪(RBS)测定溅射原子角分布,并对所有样品的靶点形貌进行扫描电子显微镜(SEM)观察。结果发现,所有的角分布都呈over-cosine形状,但是在极角为0°处实验值与cosine值的偏离△,是不同的,在靶温度为150℃时的偏离△T小于在室温时的偏离△R,亦即△T<△R,提出一个简单的模型对这种溅射角分布 关键词:  相似文献   
2.
在27keV Ar+离子轰击时,用收集膜技术结合俄歇谱仪(AES),研究了三元合金Cu76Ni15Sn9系统的择优溅射行为。同时使用扫描电子显微镜(SEM)与电子探针微分析(EPMA).观察了靶点表面形貌变化并测定了形貌特征微区的合金组份原子的相对百分浓度。结果表明,Cu原子较Ni原子、Ni原子较Sn原子,在所测定范围(0─60°)内择优发射。最后讨论了靶点表面形貌特征和“元素局域富集”现象对择优溅射过程的影响。 关键词:  相似文献   
3.
用捕获膜技术和卢瑟福背散射(RBS)分析,测定Al-Sn多相合金在30keV Ar+离子轰击时Al和Sn的溅射原子角分布。溅射后的样品用扫描电子显微镜(SEM)进行观察,并用电子微探针分析仪(EPMA)对轰击样品(靶点)和未轰击样品作成分分析。结果表明,Al的溅射原子角分布近于cosine形状,而Sn却是over-cosine型角分布。本文给出一个按不同表面形貌特征划分的各元素富集区i进行叠加的产额表达式,Y(θ)=∑Yi(θ),解释了实验结果。 关键词:  相似文献   
4.
用卢瑟福背散射技术研究了Ni基体中掺B对离子溅射产额的影响。实验结果发现掺B后Ni原子的溅射产额Y比未掺B的纯Ni样品有明显减少。虽然这种溅射产额差值ΔY与Painter和Averill(P-A)理论模型分析结果定性符合,但实验产额减小值却大于P-A模型的预言。为解释实验结果,注意到溅射靶点表面形貌对减小或增大溅射产额的明显作用,认为实际的产额减小很可能是由于结合能和表面形貌等因素的协同效应。 关键词:  相似文献   
5.
用捕获膜技术和卢瑟福背散射(RBS)谱仪测定Ag靶在27keV Ar+离子轰击下的溅射原子角分布,从而确定不同剂量下Ag的溅射产额,并对其靶点表面形貌进行扫描电子显微镜(SEM)观察。结果发现,所有的角分布都呈over-cosine形状,但其溅射产额却随着表面形貌不同而不同。根据溅射产额Y与轰击离子入射角φ变化关系,讨论不同轰击剂量下溅射产额的差别,肯定了表面形貌是影响溅射产额的一个重要因素,并由此提出“表观产额”的新概念。 关键词:  相似文献   
6.
王震遐  潘冀生  章骥平  朱福英 《物理学报》1994,43(11):1816-1820
利用微束卢瑟福背散射能谱(M-RBS)分析方法,对Al70Sn30合金表面的两种微相区(Al富集相区和Sn富集相区),在27keVAr+离子轰击(总剂量为1.4×1018Ar+/cm2)前后,分别测定了Sn原子的深度分布。实验结果表明,在Al富集相区和Sn富集相区之间,以及各相区在离子溅射前后,Sn原子浓度深度分布曲线是不相同的。  相似文献   
7.
用原子捕获膜技术结合卢瑟福背散射谱,测定了具有相同原子能量(16keV/原子)的~(25)Si_m~-(n=1,2)离子冲击Ag靶的溅射原子角分布。结果表明,~(26)Si_1~-冲击引起的Ag原子角分布较~(25)Si_2~-冲击在小发射角θ(Ag原子发射方向与靶表面法线方向之间的夹角)区有更大的增强。结合扫描电子显微镜对靶点表面的分析,我们认为这种角分布变化,可能暗示必须考虑靶点表面形貌特征差别的影响。 关键词:  相似文献   
8.
王震遐  潘冀生  章骥平  陶振兰 《物理学报》1992,41(10):1722-1727
用27keV Ar+离子对Ni-50wt% Ti,Fe-30wt% W和Ag-50wt% Cu合金进行溅射,发现Ti,Fe和Ag原子在小角区择优发射。与此同时,扫描电子显微镜(SEM)结合电子探针微分析(EPMA)显示所有样品的靶点表面形貌均由凸起和凹陷两种微区组成的特征,并且各种微区具有不同的元素富集。用据此提出的模型对各合金组分的溅射原子角度择优发射特点进行分析,得到了与实验符合的结果。 关键词:  相似文献   
9.
Angular distribution of sputtered atoms and the phenomenon of "element local richness relative to microtopographic feature" (ELR-MTF) of the sputtered tar-get surface have been investigated on Cu-37at%Ag alloys by means of Rutherford backscattering spectroscopy technique and a method based on combined scanning electron microscopy and electron probe microanalysis measurements. In this paper, emphasis is put on the bombardment with different doses and angular distributions of sputtered atoms ejecting from various micro-zones on the topographic surface during sputtering. We propose a new model (ELR-MTF model) to interpret the shape of angular distributions and the variation of R-θ (ejection angle of sputtered atoms) curves. This model can qualitatively explain the experiment quite well.  相似文献   
10.
研究发现27keV Ar+轰击Mg-Ni合金表面引起的氢化效应增强与束流剂量有关,建议用催化相表面变化模型来讨论由离子轰击引起的氢化增强现象.  相似文献   
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