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在27keV Ar+离子轰击时,用收集膜技术结合俄歇谱仪(AES),研究了三元合金Cu76Ni15Sn9系统的择优溅射行为。同时使用扫描电子显微镜(SEM)与电子探针微分析(EPMA).观察了靶点表面形貌变化并测定了形貌特征微区的合金组份原子的相对百分浓度。结果表明,Cu原子较Ni原子、Ni原子较Sn原子,在所测定范围(0─60°)内择优发射。最后讨论了靶点表面形貌特征和“元素局域富集”现象对择优溅射过程的影响。
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用捕获膜技术和卢瑟福背散射(RBS)分析,测定Al-Sn多相合金在30keV Ar+离子轰击时Al和Sn的溅射原子角分布。溅射后的样品用扫描电子显微镜(SEM)进行观察,并用电子微探针分析仪(EPMA)对轰击样品(靶点)和未轰击样品作成分分析。结果表明,Al的溅射原子角分布近于cosine形状,而Sn却是over-cosine型角分布。本文给出一个按不同表面形貌特征划分的各元素富集区i进行叠加的产额表达式,Y(θ)=∑Yi(θ),解释了实验结果。
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用捕获膜技术和卢瑟福背散射(RBS)谱仪测定Ag靶在27keV Ar+离子轰击下的溅射原子角分布,从而确定不同剂量下Ag的溅射产额,并对其靶点表面形貌进行扫描电子显微镜(SEM)观察。结果发现,所有的角分布都呈over-cosine形状,但其溅射产额却随着表面形貌不同而不同。根据溅射产额Y与轰击离子入射角φ变化关系,讨论不同轰击剂量下溅射产额的差别,肯定了表面形貌是影响溅射产额的一个重要因素,并由此提出“表观产额”的新概念。
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用原子捕获膜技术结合卢瑟福背散射谱,测定了具有相同原子能量(16keV/原子)的~(25)Si_m~-(n=1,2)离子冲击Ag靶的溅射原子角分布。结果表明,~(26)Si_1~-冲击引起的Ag原子角分布较~(25)Si_2~-冲击在小发射角θ(Ag原子发射方向与靶表面法线方向之间的夹角)区有更大的增强。结合扫描电子显微镜对靶点表面的分析,我们认为这种角分布变化,可能暗示必须考虑靶点表面形貌特征差别的影响。
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Angular distribution of sputtered atoms and the phenomenon of "element local richness relative to microtopographic feature" (ELR-MTF) of the sputtered tar-get surface have been investigated on Cu-37at%Ag alloys by means of Rutherford backscattering spectroscopy technique and a method based on combined scanning electron microscopy and electron probe microanalysis measurements. In this paper, emphasis is put on the bombardment with different doses and angular distributions of sputtered atoms ejecting from various micro-zones on the topographic surface during sputtering. We propose a new model (ELR-MTF model) to interpret the shape of angular distributions and the variation of R-θ (ejection angle of sputtered atoms) curves. This model can qualitatively explain the experiment quite well. 相似文献
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