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1.
荷能粒子轰击固体表面,打出离子和中性原子的现象称为溅射.由于离子易于在电磁场中加速或偏转,所以荷能粒子一般为离子,称这种溅射为离子溅射.随着真空技术、薄膜技术、表面分析技术以及表面科学的发展。离子溅射的用途越来越广泛,其重要性也日益为人们所共知.如今,离子溅射在溅射离子源、二次离子质谱分析(SIMS)、离子束分析、溅射镀膜、离子镀、离子和离子束刻蚀、表面微细加工等领域有广泛的应用.同时,溅射理论在分析核材料的辐照损伤,防止聚变堆中的等离子体沾污,研究离子注入、离子束混合等方面也有重要意义. 离于溅射理论经历了漫长…  相似文献   
2.
磁性材料进展   总被引:4,自引:0,他引:4  
本文介绍了磁性材料近年来的进展及应用,主要是在高技术领域的发展和在提高性能、扩大应用范围中有那些技术加工手段及其所起的作用。  相似文献   
3.
三、合金和化合物的溅射[2,21-23]1.择优(preferential)溅射现象 对合金、化合物的溅射与前面所述的对单质的溅射具有十分显著的差别.首先,即使同种原子。由单原子固体变为多种原子固体后,溅射产额也将发生十分显著的变化,这种现象在结合状态发生了很大变化的氧化物等中可以明显地看到.再者.构成固体的每种元素,溅射产额都不相同。所以被溅射固体的表面成分和溅射之前相比,发生了变化,这就是所谓的择优溅射观象.这种现象在多原子固体的溅射中是十分重要的. 一般用下述方法来分析评价择优溅射现象.为简单起见,考虑二元合金.构成二元合金的两…  相似文献   
4.
田民波 《物理》1997,26(2):117-121
由数个至数千个气体原子构成且被电离为单电荷的气体离化团束与表面相互作用产生新的效应、涉及新的机理并显示许多新的应用。例如非常浅的浅层注入(Si注入深度小于0.1μm)、极高的溅射产额(比单体离子高两个数量级)、侧向溅射效应、原子量级的表面加工(平均表面粗糙度小于1nm)、低基片温度下形成高质量薄膜等。  相似文献   
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