新型BT-BMT-xBNT无铅高储能密度陶瓷研究

本文采用传统固相反应法,成功制备了新型无铅弛豫铁电陶瓷(1-x)[0.9BaTiO₃-0.1Bi(Mg_0.25Ta_0.5)O₃]-xBi_0.5Na_0.5TiO₃。结果表明,较高居里温度的Bi_0.5Na_0.5TiO₃的引入,使得材料体系中建立了更多的以Bi—O耦合为主的极性纳米区域,弥补了因Bi(Mg_0.25Ta_0.5)O₃的加入导致的宏观极化强度的减少,提高了材料的饱和极化强度,实现了较高储能密度的同时具有更好的温度稳定性。在245 kV/cm电场强度下,x=0.2样品的储能密度约为4.01 J/cm³,储能效率约为84.86%,同时该组分在20~170 ℃储能密度的变化率小于5%,储能效率的变化率小于6%,表现出优异的温度稳定性。     

基于LabVIEW的驻波法测量声速的实验模拟

利用LabVIEW编写的测量声速的实验模拟软件不仅模拟了传统物理实验的操作过程,而且还加入了数据处理模块,实验数据采集完成后即可得出实验数据处理结果,可以用于学生实验前的预习与探究,或者实验教学中的演示。     

气浮浮选分离富集-紫外分光光度法测定水中痕量强力霉素

水样中痕量的强力霉素(DXCC)用正丙醇及无水乙醇(4+1)作混合溶剂,从pH 8的溶液中进行气浮浮选使之分离并富集.加入氯化钠作为分相剂,加入铁(HI)使与DXCC反应生成憎水的络合物而浮选入有机相,在383 am波长处测定有机相的吸光度.吸光度与DXCC浓度在3.1×10-7～2.0×10-5mol·L-1范围内呈线性关系,方法的检出限(3S/N)为2.6×10-7mol·L-1,测定中采用自制的气浮浮选装置.应用所提出的方法分析了3种不同来源的水样,并以此样品作为基体用标准加入法对方法的回收率进行了测定,测得方法的平均回收率为99.7%,测定值的相对标准偏差(n=5)均小于2.5%.     

小分子亲水有机溶剂液-液萃取技术在分析化学中的应用进展

介绍了小分子亲水有机溶剂液-液萃取技术的基本原理、影响因素并对小分子亲水有机溶剂液-液萃取技术的发展前景进行了展望,引用文献20篇.     

泡沫镍及负载型镍催化剂制备纳米碳纤维层的研究

纳米碳纤维可用在催化材料、储氢材料、及纳米电子器件等方面。本文对用泡沫镍及负载型镍催化剂催化分解乙烯或丙烯制备纳米碳纤维进行了研究。利用X射线衍射仪、物理吸附仪、扫描电镜进行了分析表征,并考察了催化剂、碳源、生长温度对纳米碳纤维生长量、形貌、结构的影响。结果表明:在生长温度450℃,乙烯流率30mL/m in的条件下,负载型镍催化剂纳米碳纤维的生长量要高出泡沫镍3~6倍,负载型镍催化剂制备的纳米碳纤维直径为40~60纳米,小于泡沫镍的情况。泡沫镍催化分解乙烯制备纳米碳纤维时,纳米碳纤维的生长量和平均直径随温度的降低而逐渐减小。纳米碳纤维在泡沫镍上的最低生长温度为420℃,在低于480℃生长纳米碳纤维时泡沫镍的骨架结构不会被破坏,由此制备的纳米碳纤维在新型结构催化材料中有很好的的应用前景。     

Chemical mechanical planarization of Ge_2Sb_2Te_5 using IC1010 and Politex reg pads in acidic slurry

In the paper, chemical mechanical planarization(CMP) of Ge2Sb2Te5(GST) is investigated using IC1010 and Politex reg pads in acidic slurry. For the CMP with blank wafer, it is found that the removal rate(RR) of GST increases with the increase of pressure for both pads, but the RR of GST polished using IC1010 is far more than that of Politex reg. To check the surface defects, GST film is observed with an optical microscope(OM) and scanning electron microscope(SEM). For the CMP with Politex reg, many spots are observed on the surface of the blank wafer with OM, but no obvious spots are observed with SEM. With regard to the patterned wafer, a few stains are observed on the GST cell, but many residues are found on other area with OM. However, from SEM results, a few residues are observed on the GST cell, more dielectric loss is revealed about the trench structure. For the CMP with IC1010, the surface of the polished blank wafer suffers serious scratches found with both OM and SEM, which may result from a low hardness of GST, compared with those of IC1010 and abrasives. With regard to the patterned wafer, it can achieve a clean surface and almost no scratches are observed with OM, which may result from the high-hardness SiO2 film on the surface, not from the soft GST film across the whole wafer. From the SEM results, a clean interface and no residues are observed on the GST surface, and less dielectric loss is revealed. Compared with Politex reg, the patterned wafer can achieve a good performance after CMP using IC1010.     

利用发射光谱进行常压介质阻挡放电等离子体诊断及其在材料表面改性上的应用(英文)

使用介质阻挡放电光谱诊断装置,对常压介质阻挡放电在材料改性过程中的等离子体发射光谱进行测量,记录和比较了空气、氦气和氩气常压介质阻挡放电等离子体发射光谱,并运用氩元素谱线的相对强度来诊断电子温度等物理参量,以达到对材料表面改性过程的实时监控。工作的结果对常压介质阻挡放电及其在材料改性上的应用具有重要的意义     

不同激光分布下Nd∶GdVO4晶体热焦距分析

为了研究方形激光晶体Nd∶GdVO4在超高斯泵浦光分布下的热效应,采用半解析的分析方法,进行了理论分析和实验验证.结果表明：当使用输出功率为15 W的半导体激光器端面中心入射时,在抽运端面中心获得1.38 μm最大热形变量（超高斯阶次为2时）和220 mm的热焦距（超高斯阶次为5时）.     

TCs-Fe(Ⅲ)体系离子液体气浮浮选荧光光谱法分离/富集四环素类抗生素残留的研究

将离子液体应用于气浮溶剂浮选,建立了一种分离/富集四环素类(tetracyclines,TCs)抗生素的新方法——离子液体气浮溶剂浮选。最优化浮选条件为:以1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐([Hmim]PF6)和乙酸乙酯(EA)的混合溶剂(φ=1/0.9)为浮选剂,以Fe(Ⅲ)为捕集剂,pH值为7.6,气体流速为40 mL.min-1,浮选时间为50 min。富集TCs-Fe(Ⅲ)配合物的[Hmim]PF6-EA相用荧光光谱法直接测定,其线性回归方程为F=246.5c+4.32(c:μg.10 mL-1),相关系数r=0.999 1。实测了鱼塘表面水体和沉积物中四环素类抗生素的含量,加标回收率达到94.2%~100.4%,RSD3.2%(n=5)。红外光谱分析显示TCs-Fe(Ⅲ)配合物没有和离子液体发生反应,离子液体在气浮溶剂浮选中只起到溶剂作用。该方法适合于环境水样中痕量四环素类抗生素的分离/富集及分析。     

不同激光分布下Nd:GdVO4晶体热焦距分析

为了研究方形激光晶体Nd:GdVO4在超高斯泵浦光分布下的热效应,采用半解析的分析方法,进行了理论分析和实验验证.结果表明:当使用输出功率为15 W的半导体激光器端面中心入射时,在抽运端面中心获得1.38 μm最大热形变量(超高斯阶次为2时)和220 mm的热焦距(超高斯阶次为5时).