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1.
用线圈电流控制非平衡磁场,用汤森放电击穿形成深度自触发放电,用磁阱捕获放电形成的二次电子和导致漂移电流,形成了高功率非平衡磁控溅射放电。采用偏压为-100V相对磁控靶放置的圆形平面电极收集饱和离子电流;在距离磁控靶14cm的位置由Langmuir探针测量浮置电位;示波器测量磁控靶的脉冲电压、电流、浮置电位和饱和离子电流信号。装置的放电脉冲功率达到0.9MW,脉冲频率最大值为40Hz左右,空间电荷限制条件是控制电子电流和离子电流的主要机制。  相似文献   
2.
Smooth, dense and uniform diamond-like carbon films (DLC films) for industrial applications have successfully been prepared by dual-target unbalanced magnetron sputtering and the DLC characteristics of the films are confirmed by Raman spectra. It is found that the sputtering current of target plays an important role in the DLC film deposition. Deposition rate of 3.5 μm/h is obtained by using the sputtering current of 30 A. The friction coefficient of the films is 0.2-0.225 measured by using a pin-on-disc microtribometer. The structure of the films tends to have a growth of sp^3 bonds content at high sputtering current. The compressive residual stress in the films increases with the increasing sputtering current of the target.  相似文献   
3.
非平衡磁控溅射沉积系统伏安特性模型研究   总被引:5,自引:1,他引:4       下载免费PDF全文
非平衡磁控溅射沉积系统的伏安特性对阴极溅射和薄膜沉积过程具有重要的影响.通过分析在常规磁控溅射沉积系统中非平衡磁场对于放电过程的影响,根据蔡尔得定律研究了非平衡磁场对磁控溅射沉积系统伏安特性影响的基本规律;根据模型和实验数据的对比证明模型正确表达了非平衡磁控溅射沉积系统中非平衡磁场对伏安特性影响的规律. 关键词: 等离子体 金属薄膜/非磁性 磁控溅射  相似文献   
4.
赵华玉  牟宗信 《中国物理 B》2008,17(4):1475-1479
In this paper a numerical simulation of a planar DC magnetron discharge is performed with the Particle-in Cell/Monte Carlo Collision (PIC/MCC) method. The magnetic field used in the simulation is calculated with finite element method according to experimental configuration. The simulation is carried out under the condition of gas pressure of 0.665 Pa and voltage magnitude of 400V. Typical results such as the potential distribution, charged particle densities, the discharge current density and ion flux onto the target are calculated. The erosion profile from the simulation is compared with the experimental data. The maximum erosion position corresponds to the place where the magnetic field lines are parallel to the target surface.  相似文献   
5.
赵凯  牟宗信  张家良 《物理学报》2014,63(18):185208-185208
大气压介质阻挡放电(DBD)可以在常压下产生非平衡等离子体,已经成为热点研究领域.通过脉冲或交变电源激发放电,研究电源输出特性、电源与放电发生器负载间的匹配和外界条件对放电的影响对于理解放电现象和提高放电效率具有重要意义.本文采用Lissajous图形法,分别研究了驱动电压、气流速率等因素影响同轴DBD发生器介质层等效电容及负载幅频特性的规律.结果表明,气流速率和驱动电压等外界条件影响DBD发生器的负载特性:介质层等效电容随气流速率增大而减小,随驱动电压增大而增大;幅频特性曲线均表现出RLC回路谐振现象,谐振频率随气流速率增大而增大,随驱动电压增大而减小.通过对比发现,介质层等效电容随频率的变化曲线与幅频特性曲线具有一致的特征,介质层等效电容是影响电路谐振频率动态变化的主要因素.提出了一种有关介质层等效电容的形成机制.  相似文献   
6.
利用朗缪尔探针和快速傅里叶变换研究了非平衡磁控溅射等离子体静电波动的驻波共振频谱特征。频带宽度为0~300kHz,典型放电条件下磁控靶前2cm和10cm两个位置的共振本征频率变化范围分别为10~50kHz和1~10kHz,研究了线圈电流、气压和放电功率等参数对共振本征频率的影响;指出了非平衡磁控溅射中能够导致等离子体静电驻波共振的两种势阱结构,提出驻波共振机制解释特征频率出现的原因,根据声驻波共振机制计算的电子温度数值符合实验的结果。  相似文献   
7.
简要介绍了低能辐照离子源的设计及性能。采用热阴极磁约束PIG放电,并用两极多孔加减速系统引出离子束。调试结果:离子束能量在200-2000eV范围内可调,最大引出束流150mA,灯丝工作寿命160h。  相似文献   
8.
聚变堆第一镜材料块体金属玻璃表面特性   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
研究了块体金属玻璃(块体非晶合金)Zr65Al7.5Ni10Cu17.5, Co61.2B26.2Si7.8Ta4.8和金属多晶钼3种第一镜材料经低温等离子体H和Ar辐照后的表面特性变化。结果表明,两种块体金属玻璃的抗H等离子体溅射能力与其成分有关。随着等离子体辐照时间的增加,金属多晶钼和块体金属玻璃Zr65Al7.5Ni10Cu17.5的表面粗糙度增大,镜面反射率降低;而块体金属玻璃Co61.2B26.2Si7.8Ta4.8的表面粗糙度减小,镜面反射率升高。X射线衍射仪(XRD)分析表明,块体金属玻璃在离子体溅射过程中,表面微结构具有自修复性。  相似文献   
9.
非平衡磁控溅射系统离子束流磁镜效应模型   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
为了研究非平衡磁控溅射沉积系统的等离子体特性,采用常规磁控溅射靶和同轴约束磁场构成非平衡磁控溅射沉积系统.在放电空间不同的轴向位置,Ar放电,02Pa和150V偏压条件下,采用圆形平面离子收集电极,测量不同约束磁场条件下的饱和离子束流密度.研究结果表明,在同轴磁场作用下,收集电极的离子束流密度能达到饱和值9mA/cm2左右,有利于在沉积薄膜的过程中产生离子轰击效应.根据磁流体理论分析了同轴约束磁场形成的磁镜效应和对放电过程的影响机理.实验与模型计算结果的比较表明,模型从理论上表达了同轴磁场约束对非平衡磁控溅射等离子体特性的影响规律. 关键词: 等离子体 金属薄膜/非磁性 磁控溅射 磁镜  相似文献   
10.
离子束溅射沉积Ti-Ni薄膜及其电化学性能的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti-Ni贮氢薄膜,研究了其电化学贮氢性能。结果表明:用离子束溅射沉积制备的Ti-Ni薄膜的结构为非晶状,薄膜对基片的附着力较强,在冲放电循环50次后仍为非晶态;在基片温度为350℃时制备的薄膜的结构为晶态,在多次放电循环后呈现非晶化趋势;Ti-Ni薄膜具有较高的电化学活性,晶化薄膜比晶态薄膜的最大放电容量高,但晶化薄膜的循环稳定性差。  相似文献   
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