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1.
在部分相干理论的基础上,分别用表观传递函数和能量分布作评价指标,计算了部分相干光学系统的最佳象面位置,并讨论了其与相干度、空间频率及象差的关系。  相似文献   
2.
采用衍射元件实现消热差的混合红外光学系统   总被引:10,自引:1,他引:9  
焦明印  冯卓祥 《光学学报》2001,21(11):364-1367
叙述了利用衍射光学元件的环境温度特性实现光学系统像面环境温度补偿的原理和设计方法,提出了按照最佳像面确定最佳修正因数的补偿方法,使系统的性能在要求的温度范围内得到最佳补偿,给出了在20℃-50℃范围实现像面环境温度补偿和8μm-12μm波段内消色差的系统设计参数和评价结果,所设计的系统结构简单,在要求的温度范围内性能稳定。  相似文献   
3.
根据光线经过折射面后像距和折射面参数之间的关系,将折射面划分为若干同心圆环,各圆环之间沿光轴有一定的轴向间隔。一束平行于光轴的光线入射后,经过不同部分光线的像点相互重叠从而使球差减小。根据上述思想用单透镜构造一个透镜称为环带透镜,然后以环数为2的透镜为例用CODE V进行像差分析。和双胶合透镜比较得出:环带透镜的球差、波像差以及轴上点的弥散斑优于胶合透镜,同时光学传递函数指标提高,接近衍射极限。  相似文献   
4.
叙述并探讨用数字傅里叶分析法测量红外热像仪扫描器光学MTF的方法,该方法采用热像仪调试用的靶标和反射式平行光管及热像仪实际 SPRITE探测器和输出电路,并得用扫描器自身的扫描获得线扩展函数,采用离散傅里叶变换法进行计算,具有设备简单、易操作和计算快捷的特点。  相似文献   
5.
大倍率红外连续变焦系统双电机控制技术研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
采用双电机联动控制变倍组与补偿组的变焦方案替代传统的曲线套筒,实现了采用全透射式结构型式,相对口径为1/4,焦距变化范围为342.76 mm~13.15 mm连续变焦光学镜头的机械补偿式变焦。将变倍组设计成步进模式,作匀速运动,补偿组设计成位置跟踪模式,按凸轮曲线作变速运动,采用双电机全数字伺服控制凸轮(CAM)算法,将光学设计计算的变倍镜和补偿镜位置对应关系转变为对应的脉冲数输入到CAM表中,从而确定2个不同运动速度轴之间的位置对应关系。试验结果表明:双电机控制的变倍组和补偿组位置分辨率达到0.18 m,光轴一致性水平方向达到1.9,垂直方向达到1.3。  相似文献   
6.
紫外-可见宽光谱显微成像光学系统的设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
 介绍一个紫外-可见宽光谱显微物镜的设计过程。通过改进的PW法求解初始结构参数,确定采用两个分离的正负透镜组组成透射式光学系统,根据光学材料的色散特性,选取正透镜材料为CaF2,负透镜材料为熔石英,通过建立复消色差方程组来分配双分离透镜的光焦度,合理地对两组透镜的偏角进行分配。运用CODE-V光学设计软件对系统进行优化,使系统的位置色差和二级光谱同时得到校正,实现了复消色差。仿真结果表明:系统在整个视场范围内,点列图弥散圆RMS半径值小于5  ,最大视场处的像散为0.058,畸变为0.04 %。  相似文献   
7.
焦明印 《应用光学》2012,33(6):1011-1013
 针对冷光栏F数为1.27的480×6元长波制冷型红外探测器,设计了焦距325 mm、F数达1.35、视场为±1.05°的用于红外警戒或搜索系统的6 片式光学系统,该系统光学透过率为76%,冷屏效率100%。  相似文献   
8.
光学被动式和机电式组合消热差方法的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
为了解决机电式消热差中光学系统热差太大,透镜的移动不能补偿温度变化引起的像面漂移问题,提出光学被动式和机电式消热差相结合的无热设计方法。该方法先通过光学被动消热差方法得到合理的消热差透镜组合,使热差控制在较小的范围内;然后通过机电消热差的方法消除剩余热差。在(-40~60)℃温度范围内,利用该方法对波长为(7.5~10.5)μm的双视场红外光学系统进行无热化设计,借助传递函数(MTF)对设计结果进行评价,说明该设计在整个温度范围内满足系统像差要求。  相似文献   
9.
为了充分发挥器件的性能,采用凝视探测器件的搜索跟踪系统需要特殊的光学结构补偿搜索跟踪时产生的扫描效应。给出了物方和像方扫描补偿光路的形式和构成,分析了平行和会聚光路两种不同补偿结构的特点,论述了扫描补偿引入的光学问题以及相应解决途径,提出了扫描补偿引入的最大光学原理性误差小于1/3~1/4像素的观点。  相似文献   
10.
在光学加工领域,采用功率谱密度(power spectral density,PSD)对误差频谱方面信息进行表征,但是功率谱密度是表面误差统计信息,不如峰谷值(peak-valley,PV)和均方根值(root mean square,RMS)直观。为了分析功率谱密度与工艺参数之间的关系,该文从PSD定义出发,分析了随机面形轮廓不同参数对光学PSD的影响规律,总结了PSD控制的要点,在平面玻璃上对数控抛光典型路径下加工的PSD曲线进行分析。分析结果表明:PSD与随机轮廓幅值、频率分布有关,相位对它几乎无影响;在RMS接近情况下,PSD线性拟合斜率和RMS Slope随随机轮廓的自相关长度增加而下降;短程加工路径相较于长程有序路径能够有效抑制PSD曲线峰值,使得光学元件符合频谱抑制要求。  相似文献   
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