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采用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在涂有FeCl3的硅衬底上制备出了纳米非晶碳薄膜.通 过SEM、XRD和拉曼光谱分析了薄膜材料的形貌和结构.并研究了薄膜材料的场发射特性.结果表明:薄膜的开启电场仅为0.39 V/μm;当电场强度为1.85 V/μm时,电流密度高达3.06 mA/cm2;且场发射点均匀、密集、稳定.迭代法计算表明薄膜材料的功函数为3.1 eV,发射点密度约为1.7×105个/cm2.这些均表明该薄膜是一种性能优良的场发射阴极材料. 相似文献
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在不同实验条件下,用微波等离子体化学气相沉积设备在硬质合金(WC+6%Co)衬底上沉积了 具有不同结构特征的金刚石薄膜.用Raman谱表征薄膜的品质和应力,用压痕实验表征薄膜的 附着性能,考察了薄膜中sp2杂化碳含量、形核密度、薄膜厚度对薄膜附着性能 的影响.结 果表明:sp2杂化碳的缓冲作用使薄膜中sp2杂化碳的含量对薄膜中 残余应力有较大的影 响,从而使薄膜压痕开裂直径统计性地随sp2杂化碳含量的增加而减小;仅仅依 靠超声遗 留的金刚石晶籽提高形核密度并不能有效改变薄膜与硬质合金基体之间的化学结合状况,从 而不能有效提高薄膜在衬底上的附着性能;在薄膜较薄时,晶粒之间没有压应力的存在,开 裂直径并不明显随厚度增加而增加,只有当薄膜厚度增加到一定值,晶粒之间才有较强压应 力存在,开裂直径随厚度的增加而较为迅速地增加.
关键词:
金刚石薄膜
附着性能
2杂化碳')" href="#">sp2杂化碳
成核密度
薄膜厚度 相似文献
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金刚石薄膜中SP ̄2/SP ̄3键价比拉曼光谱分析张兵临H,M.Philllips(郑州大学物理系郑州450052)AnalysisofSP ̄2/ SP ̄2/SP ̄3BondingRatioinDiamondThinFilmsbyRamanSpectr... 相似文献
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用电铸方法,采用低应力电镀液,制备出了自支撑金刚石-镍复合膜。电镀液PH值3.8-4.2,温度40~60℃,阳极与阴极间距100~150mm。用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)方法检测了复合膜的表面形貌、晶体显微结构和复合膜中金刚石颗粒的分布情况。结果表明:阴极电流密度对自支撑金刚石-镍复合膜的品质影响很大,当阴极电流密度从1.3 A/dm2增加到3.3 A/dm2时,复合膜的显微应变从0.36%减小到0.28%;随着阴极电流密度的增加,复合膜中金刚石颗粒的含量增加。 相似文献
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采用微波等离子体化学气相沉积法在经研磨处理后的Si(111)面上制备出了纳米非晶碳薄膜.为改善薄膜的场发射性能,在研磨好的Si基底上运用直流磁控溅射法沉积了一层金属过渡层.本文分别选择三种常见金属:钛(Ti)、鉬(Mo)、镍(Ni)来作对比试验.结果发现用钛作为过渡层时薄膜场发射效果最好,主要表现为开启电场低,同一电场下发射电流大,发射点密度较大且分布均匀等.利用迭代法计算了钛作为过渡层时制备的纳米非晶碳薄膜的有效发射面积和功函数. 相似文献
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