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1.
2.
原媛  巩岩  尹笑 《分析试验室》2021,(3):260-264
通过水相合成法制备了硫鸟嘌呤(TG)修饰的锰掺杂硫化锌量子点(TG-Mn:ZnS QDs)。加入Pt4+后,Pt4+会与硫鸟嘌呤上的氮原子结合形成N-Pt4+配位结构附着在TG-Mn:ZnS QDs的表面,随着Pt4+浓度的增加,TG-Mn:ZnS QDs-Pt4+体系发生电子转移而导致磷光逐渐被猝灭,基于此构建了检测Pt4+的磷光探针。实验中考察了p H、时间对Pt4+猝灭TG-Mn:ZnS QDs磷光强度的影响。在最佳实验条件下,Pt4+浓度在0.06~2.4μg/mL范围内与TG-Mn:ZnS QDs的磷光强度呈良好的线性关系y=0.0884x+0.2319,R2=0.991,方法检出限(3σ/n)为1.3μg/mL。该磷光探针适用于实际样品中Pt4+含量的测定。  相似文献   
3.
Toroidal surface and biconic surface are employed increasingly, however their profile cannot be null tested easily for they are non-rotationally symmetrical. Null testing method with cylinder compensator is proposed to solve this problem. The theory of this method is revealed. The errors of this method are present. Three typical testing optical systems with cylinder compensator are demonstrated at last. The design results and total error indicate that this method is feasible.  相似文献   
4.
193nm光刻曝光系统的现状及发展   总被引:1,自引:0,他引:1  
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。  相似文献   
5.
一种准确聚焦掠入射球面光栅单色仪的光学设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
巩岩  陈波 《光学学报》2001,21(5):74-577
提出了一种用于低碎屑激光等离子体软X射线光谱测试的球面光栅单色仪的光学设计方案。其设计思想是通过改变衍射光栅的偏向角使入射狭缝在所要求的波段范围内都能准确聚焦在出缝处,分析了系统的在数对单色仪技术指标的影响,优化了设计方案,使系统在13nm处的分辨率λ/Δλ≥2000(狭缝开启50um)。  相似文献   
6.
气体靶激光等离子体软X-射线源实验研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了一种无碎屑、高亮度、高工作频率的气体靶激光等离子体软X 射线源。其喷气阀门由压电陶瓷驱动 ,工作频率可达到 40 0Hz。与金属靶激光等离子体软X 射线源相比 ,此光源无碎屑。与喷嘴由电磁阀控制的气体靶激光等离子体软X 射线源相比 ,它有较高的工作频率。一工作在模拟模式的通道电子倍增器被用于探测来自光源的软X 射线辐射 ,其输出信号经过一电荷灵敏前置放大器进一步放大变成电压脉冲信号 ,脉冲幅度与输入电荷灵敏前置放大器的电量成正比。实验测得CO2 ,Xe和Kr在 8~ 2 2nm软X 射线投影光刻常用波段的光谱辐射特性。CO2 光谱包括类锂和类铍离子跃迁形成的线谱 ,Xe光谱是多电荷氙离子 4d 5f,4d 4f,4d 6p和 4d 5p跃迁所形成的光谱。Kr气体靶光谱包括类铜离子、类镍离子、类钴离子和类铁离子跃迁形成的线谱和连续谱。  相似文献   
7.
陈波  陈淑妍  巩岩 《光学技术》2004,30(2):242-244
根据空间对日观测的需要,提出了一种复合型宽波段范围的软X射线———极紫外望远镜的设计方案。该望远镜是把小结构尺寸的卡塞格林型极紫外波段正入射望远镜放置在软X射线波段,并由常用的Wolter Ⅰ型掠入射望远镜的中心部分组成。在软X射线和极紫外波段具有相同的焦距和视场角,共同使用同一个探测器,外形尺寸与相同指标的掠入射型望远镜一致,且在极紫外波段具有较高的角分辨率和光谱分辨率,适合于在空间进行对日观测使用。  相似文献   
8.
193nm光刻曝光系统的现状及发展   总被引:3,自引:0,他引:3  
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。  相似文献   
9.
针对平面光栅和棱镜成像光谱仪难以校正谱线弯曲的问题,提出了利用棱镜-光栅(P-G)组合分光元件并结合系统物镜畸变校正谱线弯曲的方法。分别计算了棱镜和光栅产生的谱线弯曲以及P-G组合元件产生的光谱弯曲,分析了棱镜和光栅的谱线弯曲特性,并基于此设计了P-G组合分光元件和消谱线弯曲成像光谱仪结构。通过优化设计得到光学系统的光谱分辨率高于2nm,点列图均方根(RMS)半径小于8μm,系统谱线弯曲和光谱弯曲小于2μm。证明了P-G组合元件结合系统物镜畸变可补偿校正整个工作波段的谱线弯曲和光谱弯曲。最后的设计结果表明,基于P-G分光元件的成像光谱仪系统在满足像质要求的前提下,谱线弯曲小于1/4像元尺寸,满足使用要求。  相似文献   
10.
刘壮  巩岩 《光子学报》2012,41(7):776-780
针对太阳极紫外成像光谱仪的应用目的与工作环境,设计了一种太阳极紫外成像光谱仪的光学系统.该系统由望远系统、狭缝、光栅与探测器组成.望远系统采用离轴WolterⅡ型结构,入射光掠入射进入系统,具有光谱范围宽、稳定性高、克服恶劣空间环境能力强等优点.扫描镜采用平面反射镜,成像质量不随扫描角的改变而改变.分光光栅采用超环面3 600lines/mm变间距光栅,与超环面等间距光栅相比,具有成像质量高、光谱分辨率高、缩短系统长度的优势.工作波段为17.0~21.0nm,可满足探索温度在5.8≤log T≤6.3区间的宁静日冕的需要.视场为1 228″×2 400″,空间分辨率达到0.8arc second/pixel,光谱分辨率约为0.001 98nm/pixel,总长度不超过2.5m.计算了望远系统的理论有效面积,给出了望远系统的成像质量与实际的视场.系统整体的成像质量、光栅的谱线弯曲与谱带弯曲,均满足实际应用要求.  相似文献   
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