电子能谱仪中金属硅化物的原位制备装置

本文介绍了在电子能谱仪中为原位制备金属硅化物样品而设计和安装的高温电子束加热装置和石英振子膜厚测量装置，着重介绍了它们的基本原理、结构和使用性能，并以Ｐｄ／ｓｉ 系统为例作了简要说明．     

Bi2Sr2CaCu2-xLixOy体系的光电子能谱研究

采用X射线光电子能谱对Bi₂Sr₂CaCu_2-xLi_xO_y体系在真空中获得的清洁表面进行了研究。结果表明:Li的掺入对Bi和Sr的化学键性质几乎没有影响,而Ca,Cu,O的化学键性质有较大的变化,其结合能随着Li含量x的增加向高能方向移动。同时对真空中获得的清洁表面和普通表面样品O1s进行了比较,结果发现真空中获得的清洁样品O1s有一个峰(528.4eV),而普通表面样品O1s有两个峰(528.4eV)和(531eV),这表明O1s的高能峰是由污染产生的。 关键词：     

简单的方法制备°-Fe2O3纳米粒子及其磁性质和电化学性质

报道了制备磁性Fe2O3纳米粒子的一种简单易行的方法．利用部分还原共沉淀法， 以Na2S2O4作为还原剂， 用FeCl3先制备出Fe2O3纳米微粒， 再在空气中直接煅烧， 成功地制备出粒径较均匀(约13 nm)的磁性Fe2O3微粒． 实验发现Na2S2O4在部分还原共沉淀法中起到了去氧剂兼还原剂的特殊作用．研究表明， 样品在室温下具有铁磁性， 其饱和磁化强度和矫顽力分别为70 emu/g和164 Oe； 产物具有好的电化学性质，在3.0?0.3 V(相对于金属锂)、0.2 mA/cm2时，样品的首次放电容量可达到933 mAh/g．同时还讨论了放电过程中金属锂与Fe2O3的反应机理．     

聚酰亚胺LB膜热解制备SiC薄膜的XPS研究

用XPS对沉积在硅基片上的聚酰亚胺LB膜以及由它真空热解制备的SiC薄膜进行了研究 ,并对其形成过程进行了跟踪分析 .XPS结果显示聚酰亚胺LB膜结构均匀 ,质量良好 ;真空热解时 ,约在 6 70℃时LB膜中的C与衬底Si反应形成SiC ;Ar离子溅射深度俄歇谱表明所制备的SiC膜中Si和C浓度成梯度分布 ,说明SiC是由Si和C相互扩散反应形成的     

人体血清的感应耦合等离子体发射光谱分析

采用感应耦合等离子体(ICP)方法来从事血液研究的曾见有Fassal,Greenfleld的报导。他们在克服基体问题上采取标准加入的方法;为了去除基体,也有人用硝酸,过氯酸硝化处理样品;近年Mermet等人采用稀释样品的方法,基体影响虽被克服了,但灵敏度却相应降低,对此问题我们在实验中摸索到用增加标样中电解质(NaCl)浓度的方法,这方法既克服了基体影响又不影响分析灵敏度,比较简便。本文介绍对血清中的磷、铁、锰、铜、锌、钙、镁等元素的一次同时测定。其中可测     

Cu(II), Eu(III)单核、双核隔室配合物的XPS研究

用X射线光电子能谱(XPS)研究了Cu(II),Eu(III)和配体6,11-二甲基-7,10-二氮杂十六-5,11-二烯-2,4,13,15-四酮(H~4daaen)形成的单核、双核隔室配合物的电子结构和成键特性;观察到配体分子中有明显的电荷转移现象;并对Cu2p~3~/~2伴峰现象进行了分析。     

Cu(Ⅱ),Eu(Ⅲ)单核、双核隔室配合物的XPS研究

用X射线光电子能谱(XPS)研究了Cu(Ⅱ),Eu(Ⅲ)和配体6,11-二甲基-7,10-二氮杂十六-5,11-二烯-2,4,13,15-四酮(H_4daaen)形成的单核、双核隔室配合物的电子结构和成键特性;观察到配体分子中有明显的电荷转移现象;并对Cu2p_3/2伴峰现象进行了分析.     

PrBa2Cu3O7-δ的制备和电子结构

采用固相反应法制备了正交单相PrBa₂Cu₃O_7-δ样品.运用标准直流四引线法测量了该样品的电阻,发现它随温度的变化呈半导体行为.通过XPS测量表明,样品中明显合有Pr⁴⁺.最后从能带结构讨论了PtBa₂Cu₃0_7-δ不超导的原因. 关键词：     

多晶Fe60Ni40合金阳极钝化膜的XPS研究

过渡金属Fe、Ni或其合金由于它们具有磁性和在工业上被用作催化剂等，它们与氧化腐蚀性气体02、C12等的作用已被广泛研究［‘－3］．含Ni的不锈钢和含Ni50％的FeNi基合金在酸性溶液中表现出比铁更好的耐腐蚀性并增强了氧化钝化层的附着力，放它们在溶液的腐蚀与钝性研究已引起广泛的兴趣，甚至包括对F6Ni基非晶合全玻璃的腐蚀与钝性研究【4一刊，用不同的方法研究溶液状态下的自然氧化膜或阳极钝化膜，得出的结果不同，对腐蚀与钝性解释也很不一致，硼酸一础砂或磷酸一磷酸盐缓冲液在工业上被广泛用作清洗剂、缓蚀剂或成膜剂等·因此，…     

K-MoO3/γ-Al2O3催化剂表面物种状态、组成和性能

应用XPS、XRD、ESR 和TPR技术分析了KCl助剂含量变化对MoO_3/γ-Al_2O_3催化剂表面物种状态、组成及其硫化还原性能的影响. K/Mo比小于0.8时, 钾离子完全和钼作用, 形成钾钼作用物种, 催化剂硫化后发生K~+表面富集, Cl~-游离并流失; K/Mo比0.8时, 钾钼作用达到饱和; K/Mo比大于0.8时, 多余的K~+和Cl~-结合以体相KCl形式存在. 钾钼作用减弱了Mo(Ⅵ)和载体之间的作用, 部分抑制了Mo(Ⅵ)的硫化还原. 钾钼作用物种硫化后可能产生CO合成醇的活性中心.