Classical simulation of atomic beam focusing and deposition for atom lithography

We start from the intensity distribution of a standing wave (SW) laser field and deduce the classical equation of atomic motion.The image distortion is analyzed using transfer function approach. Atomic flux density distribution as a function of propagation distance is calculated based on Monte-Carlo scheme and trajectory tracing method.Simulation results have shown that source imperfection,especially beam spread, plays an important role in broadening the feature width,and the focus depth of atom lens for real atomic source is longer than that for perfect source.The ideal focal plane can be easily determined by the variation of atomic density at the minimal potential of the laser field as a function of traveling distance.     

离散效应对高强度激光三次谐波转换的影响

使用分步傅里叶变换和四阶龙格库塔法(R-K) ，对高强度激光以Ⅰ/Ⅱ类角度失谐方式，在KDP晶体中的谐波转换进行了研究，详细讨论了离散效应对三次谐波转换的影响。结果表明，离散效应不但降低了三次谐波转换效率，而且使谐波光束质量显著降低；初始入射基频光束腰半径较小时，离散效应是二次谐波转换和三次谐波转换效率降低的主要因素，失谐角对三次谐波转换的影响较小；随着束腰半径的增加，离散效应的影响逐渐减小，失谐角对三次谐波转换的影响逐渐增加。     

纳米光刻技术

纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心。纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一,其制作技术是整个纳米技术的核心基础,已成为当前世界科学研究急需解决的问题。文章针对上前的科技发展情况,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题。详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、Ｘ射线光刻原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及１５７光刻的原理和实现难点。作为下一代各种光刻技术,它们都有望实现     

Classical simulation of atomic beam focusing and deposition for atom lithography

We start from the intensity distribution of a standing wave (SW) laser field and deduce the classical equation of atomic motion. The image distortion is analyzed using transfer function approach. Atomic flux density distribution as a function of propagation distance is calculated based on Monte-Carlo scheme and trajectory tracing method. Simulation results have shown that source imperfection, especially beam spread, plays an important role in broadening the feature width, and the focus depth of atom lens for real atomic source is longer than that for perfect source. The ideal focal plane can be easily determined by the variation of atomic density at the minimal potential of the laser field as a function of traveling distance.     

0.7微米i线投影曝光系统光刻物镜的设计与试制

介绍了微电子专用关键设备０．７μｍｉ线投影曝光系统光刻物镜的主要技术指标，及设计试制中解决的关键单元技术和试制结果。结果表明，数值孔径ＮＡ＝０．４２，光刻工作分辨力０．６μｍ，像场尺寸１４．６ｍｍ×１４．６ｍｍ，畸变＜±０．１μｍ的５倍精缩投影光刻物镜已试制成功。物镜具有双远心和有温度气压控制补偿，在满足高精度成像的同时，又能同时满足暗场同轴对准的特点。     

用完全非共振光驻波聚焦原子制作纳米结构分析

用完全非共振激光驻波场对热原子束实现纳米量级的聚焦，可以降低原子光刻试验的难度. 用蒙特卡罗算法和轨迹模拟法分析原子源对原子聚焦的影响，结果表明靶的有效尺寸对纳米 图形线宽的影响远大于原子束的发散角和原子的纵向速度分布. 提出几种改进试验的方法. 关键词： 完全非共振激光驻波场 原子聚焦 纳米结构制作     

亚微米(i线和g线)投影光刻物镜的光学装校

本文列出了ｉ线和ｇ线大数值孔径亚微米投影光刻物镜的技术指标要求，讨论了这类超高精度光刻物镜的光学装校技术特点，报告了计算机辅助高精度复杂光学系统偏心校正仪器和方法，最后给出了ｉ线和ｇ线光刻物镜装校检测结果。     

原子束在光定波场中聚焦研究

建立了描述原子束在光定波场中聚僬行为的理论工通过数值计算并给出原子在光驻波场中的运动轨迹,针对不同情况模拟了原子在基底上沉积的堆积图形。     

原子束在光定波场中的聚焦研究

建立了描述原子束在光定波场中聚焦行为的理论模型并通过数值计算给出原子在光驻波场中的运动轨迹,针对不同情况模拟了原子在基底上沉积的堆积图形.     

圆锥磁绝缘传输线的横向空间电荷流

根据电磁场基本理论及电子运动守恒方程，导出圆锥传输线横向空间电荷流的数值模型和磁绝缘临界条件。通过数值计算，讨论了电压及圆锥几何结构参数等对横向空间电荷流和磁绝缘性能的影响。电压较高时,无磁场的空间电荷流较大，而磁绝缘性能更好。在传输线的三个几何参数中，几何因子对传输性能影响最大。