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1.
建立乳粉中六六六(HCH)、滴滴滴(DDD)质控样品的制备方法。以乳粉为基质,添加六六六、滴滴滴标准溶液,采用喷雾干燥法制备乳粉中六六六、滴滴滴质控样品。选择气相色谱法对所制备的样品进行定值。经均匀性和稳定性检验,质控样品的均匀性良好、稳定性达到24个月。研制的乳粉中六六六、滴滴滴质控样品的定值结果:α-六六六的质量分数为(0.812 4±0.040 0) mg/kg,γ-六六六的质量分数为(2.604±0.160) mg/kg,p,p’-DDD的质量分数为(0.847 5±0.060 0) mg/kg,k=2。  相似文献   
2.
高速碰撞中的有限元方法及其应用   总被引:11,自引:2,他引:11  
讨论了连续介质力学守恒方程的有限元离散方法,针对高速碰撞的物理特点,提出了数值计算中所应重视的问题及其有效的解决办法。文中给出的典型算例说明本方法对各类高速碰撞问题的数值模拟计算是十分有用和成功的。  相似文献   
3.
非对称电极表面微观形貌对交流电渗流速的影响   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
姜洪源  李姗姗  侯珍秀  任玉坤  孙永军 《物理学报》2011,60(2):20702-020702
经典交流电渗理论是利用电场进行非机械式微流体驱动的基础.传统理论交流电渗理论以双电层理论为基础,通过耦合电场方程以及流场方程得到微电极表面交流电渗流速表达式,通常与实验流速相差较大. 以电极表面微观形貌对交流电渗流速的影响为研究目标,定义微电极表面粗糙度为微观形貌特征参数,建立了等效双电层模型,并对传统交流电渗流速公式进行了修正.理论并仿真分析了表面粗糙度对于交流电渗流速的影响,利用非对称电极对交流电渗微流体驱动进行了实验研究,并进行对比分析.结果表明,理论分析与实验结果具有较好的一致性. 关键词: 交流电渗 电极表面粗糙度 等效双电层  相似文献   
4.
白光有机发光器件的研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
王旭鹏  密保秀  高志强  郭晴  黄维 《物理学报》2011,60(8):87808-087808
白光有机发光器件(OLED)能够产生高效饱和的白光,且具有驱动电压低、材料柔性好、可实现大面积显示等特点,在信息显示与固态照明等领域有巨大的应用潜力.目前白光OLED主要分为单发光层、多发光层、下转换、叠层等结构,不同的结构具有各自的优势,都受到了很大关注.首先介绍了白光OLED的性能指标.接着,结合所开展的研究工作综述了白光OLED在结构和性能方面的研究进展,总结了实现高效白光OLED的各种方法,重点探讨了提高白光OLED性能的途径及所面临的挑战. 最后,展望了白光OLED的发展趋势. 关键词: 白光有机发光器件 固态照明 电致磷光 光取出  相似文献   
5.
6.
观察了Ge,Ge/Si交替外延时的反射式高能电子衍射(RHEED)强度振荡现象,并由此研究了Si(100)和Si(111)衬底上分子束外延Ge,Ge/Si超薄叠层的生长行为和生长特性。利用RHEED强度振荡,锁相控制生长了Ge(2ML)/Si(2ML),Ge(4ML)/Si(4ML)超薄超晶格。 关键词:  相似文献   
7.
研究了具有HollingII类型功能反应的一捕食者有两个食饵的时滞系统,通过构造Lyapunov泛函得到了与时滞有关的系统全局渐近稳定的充分条件.  相似文献   
8.
《物理现象探索》课以培养能力和提高科学素质为主要目标,引导学生大胆设想,放手实践,从现象的细微差异中探索物理规律,在学习中增加兴趣,提高能力。  相似文献   
9.
本文引入核实极化势考虑了价电子与核实电子之间的关联效应,从而对Hatree—Fork微扰方程进行了修正。应用此方法,我们计算了碱土原子Be到Ba以及稀土原子Yb的极化率.得到了与实验符合的结果。这些结果是6.07,11.14,24.02,30.54,45.32和30.15A(?)。其中,Yb的结果,是本文首次报告的。原子和分子的偶极极化率是一个重要的物理参量。它在原子碰撞中(尤其是低能碰撞)起决定性作用。它也是决定量子亏损,核屏蔽效应的重要物理参量。所以精确地计算原子的极化率是非常必要的。我们在耦合的Hatree-Fock微扰论的基础之上,引入核实极化这一物理效应,建立了一种较简捷而有效的引入关联的微扰方法,计算了Be、Mg Ca、Sr、Ba及Yb原子的偶极极化率,取得了与实验数据相符的结果。与其他作者的结果相比较,有显著的改进。其中,对原子Yb,我们首次报告了较精确的结果.  相似文献   
10.
蒋维栋  樊永良  盛篪  俞鸣人 《物理学报》1990,39(9):1429-1434
用Si分子束外延技术在GaP(111)衬底上生长Si时,发现Si外延层表面存在P偏析,根据俄歇电子能谱(AES),反射式高能电子衍射(RHEED)在一系列不同实验条件下的结果,本文对P偏析产生的机制、外延层表面再构与P偏析之间的关系作了分析和讨论,得出偏析主要来自外延Si原子与衬底P元素之间的相互交换。在此基础上提出了一种能有效地抑制P偏析同时又改善外延层质量的新的Si/GaP(111)异质结制备方法。 关键词:  相似文献   
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