浅析几类双输入排队系统模型

从矩阵几何解的角度出发,分析了七种类型的Geom/Geom/(Geom/Geom)/H 双输入排队系统.对这几个模型进行了描述,使用拟生灭过程探讨了各类模型的矩阵结构,并给出了其状态转移概率矩阵.     

独立同分布随机环境中两性Galton-Watson分支过程灭绝概率的渐近行为

本文研究了独立同分布随机环境中的两性Galton-Watson分支过程,在上临界情形下,当k充分大时,qk≤ck<'-α>.     

耐高温CrAlON基太阳能光谱选择性吸收涂层的制备与热稳定性

光谱选择性吸收涂层是太阳能光-热利用技术的核心部件,直接决定着整个系统的转换效率,为了提高涂层的选择吸收性和热稳定性,本文提出以金属氮化物替代金属纳米颗粒,构建纳米晶-非晶异质结构的思路,并采用多弧离子镀制备了Cr/CrAlN/CrAlON/CrAlN/CrAlON/CrAlO多吸收层光谱选择性吸收涂层,其吸收率达0.90,发射率为0.15,而且在500℃、大气条件下时效220 h后,涂层的吸收率升至0.94,发射率则降至0.10,并且能够保持稳定1000 h以上.微观组织分析表明,高温时效处理后,吸收层发生部分晶化形成了大量氮化物纳米颗粒,增加了对太阳光的散射和吸收,而CrAlO减反射层中的部分晶化形成了Al2O3和Cr2O3纳米颗粒,这不仅可以保护内部涂层不被氧化,而且Al2O3的形成可以增加太阳光的透过率,减少涂层表面反射,是多吸收层CrAlON基光谱选择性吸收涂层选择吸收性能提高的主要原因.同时,氮化物纳米颗粒被非晶基体均匀地分隔开来,形成了纳米晶-非晶异质结构,非晶在高温时效处理过程中只发生结构弛豫,从而有效地抑制了高温条件下的原子扩散,保证涂层中的纳米颗粒在高温下不发生明显团聚,这是多吸收层CrAlON基涂层具有良好热稳定性的最主要原因.这些研究结果对提高金属陶瓷光谱选择性吸收涂层的综合性能,实现更高效率的太阳能光-热利用具有重大意义.     

求极大T-传递内部的新方法

利用Fodor等的基本思想,从另一个角度构造了一个有限论域上模糊关系的极大T-传递内部,求得另一个与Fodor等的方法不同的极大T-传递内部,并在计算机上加以实现,从而为将一个非传递的模糊关系改造为传递的模糊关系提供了一个新的方法.     

套代数上高阶导子的刻画

设N是Banach空间X上的套,AlgN是相应的套代数。本文证明了,若套N中存在一个非平凡元在X中可补,那么AlgN上的每个可加Jordan高阶导子和每个可加三重Jordan高阶导子都是高阶导子。     

半变系数模型约束PLS估计的渐近正态性

变系数模型已获得了广泛的应用,半变系数模型是变系数模型的有效推广,本文给出半变系数模型在线性约束条件下的PLS估计,并证明了常系数和函数系数估计的渐近正态性.     

模糊全区间序结构

本文试图对模糊偏好结构及模糊全区间序结构的定义进行探讨，并讨论它们的性质．以Fodor等提出的公理为基础，给出了模糊偏好结构的定义，同时对一类重要的模糊偏好结构-模糊全区间序结构的性质进行了讨论，得出了模糊全区间序结构的一些充要条件．     

一类凹与凸算子的推广

运用锥的性质以及单调迭代技巧给出了一类广义凹算子与凸算子正不动点的存在唯一性,并讨论了算子特征值方程的性质.作为应用,利用所获结果研究了一类积分方程正解的存在唯一性.     

保持算子乘积谱函数的映射

设A和B为无限维复Banach空间上的标准算子代数,记Δ~R(·)为下列谱函数之一:σ~R(·),σ_l~R(·),σ_r~R(·),σ_l~R(·)∩σ_r~R(·),(?)σ~R(·),(?)σ~R(·),σ_p~R(·),σ_c~R(·),σ_(ap)~R(·),σ_s~R(·),σ_(ap)~R(·)∩σ_s~R(·),σ_p~R(·)∩σ_c~R(·),σ_p~R(·)∪σ_c~R(·),其中R=A或B.证明了A和B之间的每个保持算子Jordan三乘积(算子乘积)之谱函数△~R(·)的满射Φ必有形式Φ=(?)π,其中(?)是1的立方根(1的平方根)而π或者是A和B之间的代数同构,或者是代数反同构.也获得不定度规空间上的标准算子代数之间保持算子斜乘积之谱函数的映射的完全刻画.     

混合单调算子的两点拉伸型不动点定理

本文首次提出了混合单调算子不动点的两点拉伸型条件.同时,利用锥映象的不动点指数理论建立了一类特殊的两点拉伸型混合单调算子的不动点存在性定理,并将所得结论应用于带有超线性项的积分方程与微分方程上,得到了新的结论.因而在本质上推进了混合单调算子不动点问题的研究.