羟基化对Si3N4粉体水相分散性的影响

过施加硝酸有效地使氮化硅（Si₃N₄）粉末的表面羟基化,以改善在水性介质中的分散性。与天然粉末相比,羟基化粉末在水性介质中产生更稳定的胶体分散。傅里叶变换红外光谱和X射线光电子能谱结果表明,随着羟基改性,Si₃N₄粉末的羟基含量显著增加。这有助于防止Si₃N₄粉末在水性介质中聚集。此外,热重分析表明羟基化Si₃N₄粉末的羟基含量比天然粉末高68.8%。Si₃N₄粉末的表面亲水性通过羟基改性而增强,并且粉末分散性随着羟基含量的增加而提高。     

羟基化对Si3N4粉体水相分散性的影响

通过施加硝酸有效地使氮化硅（Si₃N₄）粉末的表面羟基化,以改善在水性介质中的分散性。与天然粉末相比,羟基化粉末在水性介质中产生更稳定的胶体分散。傅里叶变换红外光谱和X射线光电子能谱结果表明,随着羟基改性,Si₃N₄粉末的羟基含量显著增加。这有助于防止Si₃N₄粉末在水性介质中聚集。此外,热重分析表明羟基化Si₃N₄粉末的羟基含量比天然粉末高68.8%。Si₃N₄粉末的表面亲水性通过羟基改性而增强,并且粉末分散性随着羟基含量的增加而提高。