二氧化碳在铜表面的吸附研究及其光致分解

使用X光电子能谱(XPS)及高分辨电子能量损失谱(HREELS)研究了二氧化碳在铜表面的吸附及其光化学反应.通过实验条件控制将物理吸附及化学吸附的二氧化碳吸附物种分别分离在规整铜表面及无序铜表面上,并使用193 nm激光对其照射研究其相应的光化学反应.结果表明只有化学吸附的二氧化碳物种在光诱导下发生了解理反应,而物理吸附的二氧化碳未发生反应.     

通过硅烷偶联剂在硅和铟锡氧化物(ITO)表面嫁接寡聚芴分子

通过硅烷偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷(3-aminopropyl-triethoxysilane,APTES)的“分子桥梁”作用,采用两种不同的方法,把修饰后的寡聚芴分子键联到硅表面和铟锡氧化物(ITO)表面上。X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和循环伏安(CV)方法等的表征证实了通过硅烷偶联剂在硅表面和ITO表面嫁接寡聚芴分子可行性。     

《催化学报》以本期专刊的出版纪念邓景发院士诞辰八十周年

闵邓景发先生1933年8月出生于上海市,1955年毕业于复旦大学化学系,后师从吴浩青教授攻读电化学研究生,1959年研究生毕业后留在复旦大学工作,直至2001年5月12日因心脏病突发去世.     

邓景发先生传略

邓景发先生(1933～2001),物理化学家,化学教育家,在物理化学及多相催化、真空表面化学教学、科研领域做出了重要的贡献.他是我国电解银催化剂基础研究和应用的开拓者,高校真空表面化学研究的先行者,非晶态合金催化剂研究的重要奠基人.自1959年于复旦大学