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新型三硅氧烷表面活性剂在低能表面的铺展机理 总被引:6,自引:0,他引:6
为了了解三硅氧烷类表面活性剂在低能表面上的铺展机理, 实验研究了5种新型葡糖酰胺类三硅氧烷在石蜡表面铺展行为与时间以及浓度的关系. 结果显示: 在大多数情况下, 葡糖酰胺类三硅氧烷在石蜡表面的铺展是由三相线处非平衡毛细作用力导致, 在高浓度的I, II体系中, 表面张力梯度参与驱动液滴的铺展. 此外, 研究发现表面活性剂的HLB值以及分子体积明显影响其铺展能力, 具有适当HLB值的II在石蜡表面显示了一定的超铺展行为, 并在各浓度下均表现出最佳铺展性能. 相似文献
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新型三硅氧烷表面活性剂的合成与界面性能 总被引:10,自引:0,他引:10
低聚乙二醇单甲醚和环氧氯丙烷在相转移催化剂(P.T.C)存在下合成出低聚乙二醇甲醚缩水甘油醚, 然后与氨丙基三硅氧烷进行开环反应, 合成出了新型的三硅氧烷表面活性剂Me3SiOSiMeROSiMe3 [R=(CH2)3N(CH2CH(OH)CH2- (OCH2CH2)xOCH3)2, x=1, 2]. 通过1H NMR确证了这些目标产物的结构, 并且通过测定其水溶液的平衡表面张力研究了其表面活性. 在浓度约为10-4 mol•L-1时可以将水的表面张力降低至约21~22 mN•m-1. 相似文献
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含有双胺基的三硅氧烷中的伯胺基与D 葡萄糖酸 δ 内酯进行酰胺化 ,仲胺基与低聚乙二醇甲醚缩水甘油醚、二缩水甘油醚进行烷基化 ,制备了新型含硅表面活性剂Me3 SiOSiMeR1OSiMe3 [R1=(CH2 ) 3 NR2 (CH2 ) 2 NHCO(CHOH ) 4 CH2 OH ;R2 =H ,CH2 CH(OH)CH2 O(CH2 CH2 O) xCH3 ,x =1,2 ,3 ] ( 1a ,2a~ 2c)和 (CH2 OCH2 ) y(Me3 SiOSiMeR3 OSiMe3 ) 2 [R3 =(CH2 ) 3 NR4 (CH2 ) 2 NHCO(CHOH) 4 CH2 OH ;R4=CH2 CH(OH)CH2 OCH2 ,y =0 ,1,2 ] ( 3a~ 3c) .这些化合物的结构用1H ,13 C核磁共振仪和元素分析仪进行鉴定 .研究了这些新型含硅表面活性剂的界面性能 ,在浓度分别为 10 -4和 10 -5mol·L-1时可以将水的表面张力降低至约 2 1mN·m-1. 相似文献
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A.题组新编1 . (1 )已知 lg x lg y =1 ,则 u=2x 5y 的最小值为 ;(2 )已知 x、y∈ R ,且 x y =3,则u = 2 x 2 y 的最小值为 ;(3)已知 x、y∈ R ,x 2 y=1 ,则 u=1x 1y的最小值为 ;(4)已知 x、y∈ R ,且 xy2 =1 ,则 x y的最小值为 ;(5)已知 x、y∈ R ,且 x y = 1 ,则 xy2的最大值为 .2 .如图 1 ,三棱锥 P— ABC的顶点 P在△ ABC所在平面上的射影为 O.(1 )若 PA =PB=PC,则O是△ ABC的 ;图 1(2 )若 P到 AB、BC、AC的距离相等 ,则 O是△ ABC的 ;(3)若 3个侧面与底面 ABC所成二面角相等 ,… 相似文献
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