蓝色铬膜层的电沉积机理

本文通过对蓝色铬膜层的XPS分析及电化学方法研究了该膜层的沉积过程。结果表明,整个膜层可分为:120nm厚的交界层(主要成分是Cr和基底Ni),250nm厚的中间层(Cr_2O_3,Ct和CtSe,后者决定了膜层呈蓝色),以及100nm厚的表面层(吸附的Cr(Ⅵ)、Cr(Ⅲ),SeO_4~(2-)和Se),对电沉积历程和机理进行了探讨。     

电沉积条件对锌镀层织构的影响

采用ＸＲＤ方法研究添加剂，络合剂，以及电流密度对锌酸盐镀锌层的织构和晶粒尺寸的影响，结果表明，添加剂ＡＡ－１的存在有利于（１０１）晶面取向；而ＤＩＥ则使镀层转变为１１０择优；两种添加剂同时存在下，可在一定的电流密度范围内获得高择优取向的锌镀层，而当又有络合剂ＴＥＡ和ＥＤＴＡ同时存在时，则可在更宽广的电流密度范围内制得日 粒细密、表面光亮、择优系数ＴＣ（１１０）在９８５以上的高择优取向锌沉积层。     

碱性介质中高择优取向（220）镍电极上丙醇的电氧化

对１．０ｍｏｌ／ＬＮｉＳＯ４和０．５ｍｏｌ／Ｌ Ｈ３ＢＯ３体系，控制电位为一１．２５Ｖ，沉积６０ｍｉｎ，制得高择优取向镍电极。该镍电极经Ｘ射线衍射测定其织构度ＴＣ２２０为９２％。采用循环伏安法研究了１ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ溶液中高择翁取向镍电极上丙醇的电催化氧化机理有活性，结果表明：高择优取向镍电极对正丙醇的电催化活性高，对异丙醇的电催化活性小；推导出正丙醇的电氧化动力学方程，运用稳态极经曲线测定了     

辣根过氧化物酶的电化学固定化及其对H2O2的生物电催化…

利用电化学固定化方法制备了聚吡咯／辣根过氧化物酶（ＰＰ／ＨＲＰ）膜电极，并研究了其电化学行为，在除氧的磷酸盐缓冲液介质中，ＰＰ／ＨＲＰ电极加速Ｈ２Ｏ２的还原，归因子酶加成物的直接电子传递，探索ＨＲＰ与电子传递体Ｋ４Ｆｅ（ＣＮ）６在聚吡咯（ＰＰ）膜中的同时固定化条件及其膜电极的电化学行为，实验证实，Ｋ４Ｆｅ（ＣＮ）６在酶膜中的存在使得Ｈ２Ｏ２的还原电位强烈正移，在－０．０５Ｖ的工作电位下能对Ｈ２Ｏ２     

烟酸对酸性硫酸盐体系铜电沉积的影响

对溶液A: 0.8 mol•L－1硫酸铜,0.6 mol•L－1硫酸,5.0×10－5 mol•L－1氯离子,1.0×10－4 mol•L－1聚乙二醇的溶液,溶液B:在溶液A中加入2.0×10－2 mol•L－1烟酸,pH为0.5,运用循环伏安和计时安培法研究玻碳电极上铜的电沉积行为.结果表明,铜的电沉积过程经历了晶核形成过程,其电结晶按瞬时成核和三维生长方式进行.烟酸的加入对铜的电沉积具有阻化作用,但不改变铜的电结晶机理.沉积层的X射线衍射表明Cu为面心立方结构,在烟酸存在下沉积层出现(220)高择优取向,这可能是烟酸在Cu(220)晶面上发生强烈吸附作用的结果.     

镍钨磷合金电结晶机理及其镀层结构与显微硬度

应用循环伏安,恒电位阶跃和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）等方法了Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金电沉积特点和镀层结构与显微硬度,结果表明,在以柠檬酸铵为配体的溶液中,Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金 层较Ｎｉ－Ｗ合金有较低的电化学活性,根据电位阶跃的ｉ－ｔ曲线分析表明,在玻碳电极上Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金电结晶过程遵从扩散控制瞬时成核三维成长模式进行,随着过电位的增加,电极表面上晶核数增多,ＸＲＤ试验结果表明,Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金镀层呈现明显的非晶态特征,所获得的Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金电沉层的显微硬度在４５０ｋｇ．ｍｍ＾－２左右。     

Studies on Structure and Electrocatalytic Hydrogen Evolution of Nanocrystalline Ni-Mo-Fe Alloy Electrodeposit

NanocrystallineNi Mo Fealloydepositswereobtainedbyelectrode position .ThestructuresofthealloydepositswereanalyzedbyX raydiffraction (XRD )andX rayphotoelectronspectroscopy(XPS) .TheXRDresultsofnanocrystallineNi Mo Fealloydepositshowthatmanydiffractionlinesdisappear ,andthatthereisonlyonediffractionpeakat 44 .0° .TheXPSresultsofnanocrystallineNi Mo Fealloydepositsindicatethatthenickel,molybdenumandironofthedepositsexistinmetallicstate ,andthatthebindingen ergyofthealloyedelementsincre…     

彩虹色铬膜电沉积研究

本文对电沉积铬形成的彩虹色铬膜进行了XPS、UPS分析,并用电化学方法研究其形成过程,根据彩虹色铬膜的成分分布。该膜可分为表面层、中间层和与基底连接的交界层,对彩虹色铬膜的形成机理和显色原因也进行了探讨。     

添加剂的吸附行为及其对Ni沉积层性能的影响

采用电化学及X射线衍射等方法研究有机添加剂苯磺酸钠、苯亚磺酸钠和糖精的吸附作用及其对Ni电沉积层的电化学活性、晶粒尺寸、织构及显微硬度的影响．结果表明，苯亚磺酸钠和糖精使Ni沉积层的电化学活性提高，（111）晶面的织构系数明显增大，而使（200）晶面的织构系数减小，还导致沉积层的晶粒尺寸显著减小和显微硬度提高；然而，苯磺酸钠对沉积层的活性及织构影响很小．讨论了上述添加剂的作用．