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利用磁控溅射仪制备了高Co含量的Ti1-xCocO2磁性半导体样品,并对样品分别在200℃,300℃和400℃进行退火研究.使用透射电子显微镜(TEM)对退火前后样品的结构进行表征,并用X射线光电子能谱(XPS)对退火前后样品中Co元素的化学状态进行鉴定.结果表明高Co含量的Ti1-xCoxO2磁性半导体处于一种亚稳状态,300℃以上的温度便使其结构与成分发生巨大变化.利用超导量子干涉磁强计(SQUID)测量退火前后样品的磁特性.结果表明样品的磁性有了明显的变化,这源于磁性产生的不同机理. 相似文献
2.
Structural and physical properties of BiFeO3 thin films epitaxially grown on SrTiO3(001) and polar(111) surfaces 下载免费PDF全文
The influence of surface polarity on the structural properties of BiFeO3 (BFO) thin films is investigated. BFO thin films are epitaxially grown on SrTiO3 (STO) (100) and polar (111) surfaces by oxygen plasma-assisted molecular beam epitaxy. It is shown that the crystal structure, surface morphology, and defect states of BFO films grown on STO substrates with nonpolar (001) or polar (111) surfaces perform very differently. BFO/STO (001)is a fully strained tetragonal phase with orientation relationship (001)[100]BFOII(001)[100]STO, while BFO/STO (111) is a rhombohedral phase. BFO/STO (111) has rougher surface morphology and less defect states, which results in reduced leakage current and lower dielectric loss. Moreover, BFO films on both STO (001) and STO (111) are direct band oxides with similar band gaps of 2.65 eV and 2.67 eV, respectively. 相似文献
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对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的 主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.
关键词:
Fe/Si多层膜
层间耦合
界面扩散 相似文献
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本文根据晶场理论计算了α-Fe_2O_3的单离子磁晶各向异性。采用点电荷模型,计及近邻及次近邻对晶场的贡献,并考虑到近邻O~(2-)离子对次近邻Fe~(3+)离子的电屏蔽效应,在六级微扰近似下,得到单离子各向异性场H_(si)=102.3×10~2Oe。这一结果结合Artman等人对磁偶极各向异性的计算,导出了α-Fe_2O_3的Morin转变温度T_M=261K,与实验很好地符合。对于低浓度掺杂的α-(Fe_(1-n)Al_n)_2O_3采用线性近似原理,得出了Morin转变温度随n的变化关系。这一结果不但解释了现有的实验事实,而且预示了Morin转变温度随n变化的规律。 相似文献
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