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本文是作者1982年在中国访问时所作的讲演,论述物理学各领域的前沿工作,用许多事例说明计算物理对推动物理理论的重大意义。文中还指出计算物理在其性质、方法及需要等方面不同于和独立于解析的理论物理和实验物理,而成为物理学的第三分支。 相似文献
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Quantum cutting in Gd2SiO5: Eu3+ by VUV excitation 总被引:1,自引:0,他引:1
The emission and excitation spectra of Gd2SiO5: Eu3+ were investigated using the VUVbeam line of the Beijing Synchrotron Radiation Facility (BSRF). The experimental results werediscussed in the frame of visible quantum cutting process involved in Gd3+-Eu3+ system. Upon di-rect excitation into the 6GJ states of Gd3+, two visible photon emissions from Eu3+ were observed.Cursory evaluation proved that Gd2SiO5: Eu3+ is an efficient visible quantum cutter. 相似文献
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利用同步辐射光源(德国HASYLAB实验室的SUPERLUMI实验站)和真空紫外激光(157.6nm)对新型蓝光发射长余辉材料Sr2MgSi2O7∶Eu2 (0·2%),Dy3 (8%)进行了光谱研究。在170nm同步辐射光源激发下,观察到对应Eu2 :5d-4f跃迁的477nm发射带和对应Dy3 :4f-4f跃迁的两组线谱发射,其中只有来自Eu2 的5d-4f发射对长余辉光谱有贡献。在157.6nm激光激发下,除了上述发射外,还明显观察到对应Eu3 的红色线谱(590,614,626nm)。结合这些光谱特性,对Sr2MgSi2O7∶Eu2 ,Dy3 中稀土离子的发光特性以及长余辉发光机理进行了讨论,并提出了Eu2 充当空穴陷阱的可能性。 相似文献
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Si表面上生长的ZnO薄膜的阴极射线荧光 总被引:11,自引:7,他引:4
几种不同温度下退火的用直流溅射法生长的ZnO/Si样品的阴极射线荧光(CL)光谱显示,当退火温度低于等于800℃时,随着退火温度的升高,薄膜的晶体质量得到了改善,这主要体现在390nm紫外带的发射强度与505nm绿带发射强度的相对比值迅速增加,同时也发生了绿带的红移以及窄化效应。但退火温度超过800℃时绿带就不再红移了,其峰值为525nm。当退火温度为950℃时,紫外带几乎消失,而只剩下绿带,且与纯硅酸锌样品的CL谱一致,掠入射X射线衍射测量表明,确有三角相三元化合物硅酸锌的产生。因此,从ZnO/Si异质结的质量来看,直流溅射法可能不适宜用于生长这样的异质结:因为当退火温度低于800℃且相差较大(如600℃)时,不能得到产生强ZnO紫外发光的晶体质量,而当退火温度接近或高于800℃时,虽然zn0晶体质量得到了改善从而紫外发光份额迅速增加,但同时也产生了新的三元化合物硅酸锌,将严重影响ZnO/Si异质结的电学输运特性。 相似文献
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本文综述了近年来使用同步辐射研究稀有气固体、碱卤化物、碱土卤化物以及含稀土的离子晶体等宽禁带、绝缘体材料在激子动力学特性方面所取得的主要进展。包括激子的基本特性,激子与晶格的相互作用,特别是激子的自陷与激子激励的解吸附,激子与稀土中心间的能量传递,高激子态的弛予以及团簇中的激子特性等。最后简介典型的实验系统。 相似文献
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