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采用3种不同的络合剂[柠檬酸三钠、反式-1,2-环己二胺四乙酸·一水(C14H22N2O8·H2O,CyDTA)和氨水]制备了3种Pd-Sn/C催化剂.用X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射谱(XRD)和透射电子显微镜(TEM)表征了3种催化剂的平均粒径、形貌和组成.X射线光电子能谱(XPS)的测试结果表明,3种催化剂表面存在Sn和SnO x2种状态.电化学测试结果表明,3种催化剂在碱性电解液中对乙醇氧化的电催化性能均优于商业化的Pd/C催化剂,其中用CyDTA制备的Pd-Sn/C催化剂在碱性溶液中对乙醇氧化的电催化性能最好. 相似文献
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Pt-Ru合金薄膜的电沉积制备及其电化学表面增强红外吸收光谱 总被引:1,自引:0,他引:1
在1mmol·L-1H2PtCl6+1mmol·L-1RuCl3+0.1mol·L-1H2SO4镀液中采用电沉积法在化学镀金膜的红外窗口Si反射面上制备Pt50Ru50合金电极.利用原子力显微镜(AFM)可以观察到制备的Pt50Ru50合金电极形貌呈现出100-200nm大小的颗粒.常规电化学分析方法得出该电极具有典型的合金特征,对CO和CH3OH具有很好的催化氧化作用.应用电化学现场衰减全反射表面增强红外光谱法(ATR-SEIRAS)可以观察到该电极上Pt位和Ru位上CO的振动谱峰,且表现出Pt-Ru二元金属良好的协同催化性能. 相似文献
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复方钨酸盐对铜缓蚀协同作用的光电化学和SERS 研究 总被引:1,自引:0,他引:1
主要采用光电化学方法和表面增强拉曼光谱技术对具有环境友好性的钨酸盐与BTA复配使用对铜的缓蚀协同效应和作用机理进行了研究。实验表明Na2WO4对铜的缓蚀作用机理与BTA不同,在电位正向扫描过程中,光电流并不发生转型,其大小变化也不大;但在电位负向扫描过程中产生的阴极光电流峰值明显增大,缓蚀剂浓度越大,光电流越大,缓蚀效果越好,而Na2WO4与BTA复配使用时具有较好的协同效应,光电化学和SERS结果都说明其协同机理为两者都能对铜的缓蚀产生作用,前暑能促使电极表面产生的铜的氧化物增多;后者能与铜(Ⅰ)生成聚合物膜。 相似文献
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聚天冬氨酸与钨酸钠复配对白铜B10的缓蚀作用 总被引:1,自引:0,他引:1
应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚冬天氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对白铜B10在硼砂-硼酸缓冲溶液中的缓蚀作用援研究表明, 在光电流循环伏安测试中, 单一的PASP与Na2WO4均能够使B10表面Cu2O膜引起的p型光电流响应增大, 这说明缓蚀剂增大了Cu2O膜的厚度, 使B10的腐蚀速率减小. 单一的PASP与Na2WO4的最佳添加浓度分别为3和5 mg·L-1, 单一的Na2WO4比单一的PASP使p型光电流响应增大趋势更大. 若以总浓度为5 mg·L-1时对两者进行复配, 当PASP与Na2WO4的质量浓度比为1:1和1:3时, 两者复配比单一使用时的p型电流光响应都更大, B10的腐蚀更小, 即缓蚀剂的效果更好. 交流阻抗测试结果与光电化学测试相一致. 相似文献
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电沉积AuInSe2半导体薄膜上的电化学振荡现象 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了电沉积制得的AuInSe2半导体薄膜上过氧化氢阴极还原过程中产生的电化学振荡行为,对影响该振荡行为的一些因素如半导体薄膜的后处理、溶液组成、传质、光照、化学浸渍作用等进行了分析,同时采用外界周期性光照和外接小幅度正弦波电位来调节振荡频率,为金铟硒半导体薄膜发展成为光电传感器件提供了一定的理论与实践基础. 相似文献
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随着新能源如电动汽车、储能电站的蓬勃发展,人们对下一代高性能锂离子电池的能量密度、功率密度和循环寿命提出了更高的要求.而富锂锰基正极材料x Li2Mn O3·(1-x)Li MO2(0x1,M=Mn、Co、Ni…)具有可逆比容量高(240~280 m Ah·g-1,2.0~4.8 V)、电化学性能较佳、成本较低等优点,已吸引了研究者的关注,有望成为下一代锂离子电池用正极材料.本实验室采用固相法和溶胶-凝胶法制备不同的富锂锰基正极材料,其中,溶胶-凝胶法制得的Li[Li0.2Mn0.54Ni0.13Co0.13]O2电极首周期放电比容量277.3 m Ah·g-1,50周期循环后容量272.8 m Ah·g-1,容量保持率98.4%.本文重点结合本实验室的研究工作,对新型富锂锰基正极材料x Li2Mn O3·(1-x)Li MO2的结构、合成、电化学性能改性和充放电机理等进行总结与评述. 相似文献
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3-氨基-1,2,4-三氮唑对铜的缓蚀性能和吸附行为 总被引:4,自引:0,他引:4
采用电化学和表面增强拉曼光谱(SERS)方法研究了新型环境友好型金属水处理剂3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)对铜在3% NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为. 结果表明, ATA对铜有较好的缓蚀作用, 其中ATA浓度为0.24 mmol·L-1时对铜的缓蚀效率最高, 为97.65%, 其吸附行为符合Langmuir吸附等温式, 吸附机理是典型的化学吸附援SERS表明, ATA分子通过很强的吸附于铜表面达到抑制其腐蚀的作用, 是ATA-与Cu+形成配合物来阻止氯离子化合物(CuCl-2)的生成. 相似文献
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聚天冬氨酸与钨酸钠复配对黄铜缓蚀作用的光电化学研究 总被引:4,自引:0,他引:4
应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对黄铜在含硼砂硼酸缓冲溶液的模拟水中的缓蚀作用. 结果表明, 在光电流循环伏安测试中, 单一的PASP与Na2WO4均能够使黄铜表面Cu2O膜引起的p-型光电流响应增大, 这说明缓蚀剂增大了Cu2O膜的厚度, 使黄铜的腐蚀速率减小. 单一的PASP与Na2WO4的最佳添加浓度分别为20与25 mg8226;L-1. 若以总浓度为20 mg8226;L-1时对两者进行复配, 当PASP与Na2WO4的质量比为1∶1时, 两者复配比单一使用时的p-型电流光响应都更大, 黄铜的腐蚀更小, 即缓蚀剂的效果更好. 相似文献